特許
J-GLOBAL ID：200903058223613865
電子放出素子、電子源及び画像形成装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
世良 和信 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-254636
公開番号（公開出願番号）：特開2002-150929
出願日： 2001年08月24日
公開日（公表日）： 2002年05月24日
要約：
【要約】【課題】 電子放出特性の均一化を図ることで、耐久性に優れた電子放出素子、電子源、さらには長期にわたって均一な表示特性を有する画像形成装置を容易に作製可能とする電子放出素子、電子源及び画像形成装置の製造方法を提供する。【解決手段】 電子放出素子の製造方法にあっては、基板の表面上に、陰極電極を配置する工程と、前記陰極電極に対向する様に電極を配置する工程と、前記陰極電極上に炭素を主成分とする複数のファイバーを配置する工程と、減圧雰囲気中で、前記陰極電極に対向する様に配置される電極に、前記陰極電極に印加される電位よりも高い電位を印加する工程と、を有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
基板の表面上に、陰極電極を配置する工程と、前記陰極電極に対向する様に電極を配置する工程と、前記陰極電極上に炭素を主成分とする複数のファイバーを配置する工程と、減圧雰囲気中で、前記陰極電極に対向する様に配置される電極に、前記陰極電極に印加される電位よりも高い電位を印加する工程と、を有することを特徴とする電子放出素子の製造方法。
引用特許：
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