特許
J-GLOBAL ID：200903058305972251
グラデーションマスクとその製造方法およびグラデーションマスクを用いた特殊表面形状の創成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-088092
公開番号（公開出願番号）：特開平9-146259
出願日： 1996年04月10日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：
【要約】【課題】所望の露光強度分布を容易且つ確実に実現できるグラデーションマスクを実現する。【解決手段】透明基板1上に、金属および/または金属化合物の均一厚層2を、その透過率が10%以下となるように形成し、形成された金属および/または金属化合物の均一厚層2上に、所望形状のパターンを持つエッチング用のマスクをパターニングし、層2をドライまたはウエットエッチングする。マスク4のパターン形状を順次換えて、パターニングとエッチングを所望の回数繰返し、層厚:Z(X,Y)が、所望の透過率分布に対応して、3段階以上段階的に変化した金属および/または金属酸化膜の層2を形成する。
請求項（抜粋）：
透明基板上に金属および/または金属化合物の層が、平面座標:X,Yで表される所望の2次元領域において層厚:Z(X,Y)が、所望の透過率分布に対応して3段階以上段階的に変化するように形成されていることを特徴とするグラデーションマスク。
IPC (6件)：
G03F 1/08
, H01L 21/027
, G02B 3/02
, G02B 5/00
, G03F 7/105 501
, G03F 7/26 511
G03F 1/08 D
, G02B 3/02
, G02B 5/00 Z
, G03F 7/105 501
, G03F 7/26 511
, H01L 21/30 502 P
