特許
J-GLOBAL ID：200903058356499437

研磨用粒子および研磨材

発明者：
西田 広泰

西田 広泰 について

, 
若宮 義憲

若宮 義憲 について

, 
小松 通郎

小松 通郎 について


出願人/特許権者：
触媒化成工業株式会社

触媒化成工業株式会社 について


代理人 (1件)： 石田 政久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-087739
公開番号（公開出願番号）：特開2003-277732
出願日： 2002年03月27日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：
【要約】【課題】 アルカリ金属による不具合を生じることのないコア・シェル構造を有する研磨用粒子である。【解決手段】 研磨用粒子は、平均粒子径(D)が5〜300nmの範囲にあるコア・シェル構造を有し、シェル部の厚さ(ST )が1〜50nmの範囲にあるシリカを主成分とするシリカ系複合酸化物からなる。シェル部1g当たり0. 1〜3meqのイオン交換点を有することが望ましい。
請求項（抜粋）：
平均粒子径(D)が5〜300nmの範囲にあるコア・シェル構造を有し、シェル部の厚さ(ST )が1〜50nmの範囲にある複合酸化物からなることを特徴とする研磨用粒子。
IPC (5件)：
C09K 3/14 550 ,  B24B 37/00 ,  B24D 3/00 320 ,  B24D 3/00 330 ,  H01L 21/304 622
FI (5件)：
C09K 3/14 550 D ,  B24B 37/00 H ,  B24D 3/00 320 A ,  B24D 3/00 330 C ,  H01L 21/304 622 B
Fターム (14件)：
3C058AA07 ,  3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C063AA01 ,  3C063AB01 ,  3C063BB01 ,  3C063BB03 ,  3C063BB14 ,  3C063CC01 ,  3C063EE10 ,  3C063EE26 ,  3C063FF23
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (11件)
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