特許
J-GLOBAL ID：200903058634404272

液晶表示装置用基板のパターンニング方法と液晶表示装置用基板、および液晶表示装置

発明者：
高橋 正泰

高橋 正泰 について

, 
飯田 満

飯田 満 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-270763
公開番号（公開出願番号）：特開2006-084897
出願日： 2004年09月17日
公開日（公表日）： 2006年03月30日
要約：
【課題】液晶ディスプレイにおける、配向方向制御用突起や液晶層厚さを規定する柱状またはリブ状のスペーサを配設する際の生産性や品質の問題に対応できるパターンニング方法を提供する。【解決手段】感光性材料としてネガ型で、且つ、光量を変えることにより残膜量が変わる感光性材料を用い、レーザ直描画方式により光量を変えて露光し、あるいは、感光性材料としてネガ型で、且つ、波長を変えることにより残膜量が変わる感光性材料を用い、レーザ直描画方式により、波長を変えて露光し、この後、現像プロセスを行い、パターニング形成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
順次、露光、現像を行うパターニング処理を、1回だけ行うことにより、パターンニング素材としての1層の感光性材料から、液晶表示装置用の基板を構成している、層構成上で互いに隣接あるいは同じ層上に位置する、形状が異なる複数の機能部を形成する、パターンニング方法であって、前記1層の感光性材料としてネガ型で、且つ、所定の露光波長で露光量を変えることにより、所定の現像プロセスによる残膜量が変わる感光性材料を用い、該感光性材料を、レーザ直描画方式により、前記複数の機能部の各機能部領域毎に、それぞれ、前記所定の露光波長で露光量を変えて露光し、あるいは、前記1層の感光性材料としてネガ型で、且つ、露光波長を変えることにより、所定の現像プロセスによる残膜量が変わる感光性材料を用い、該感光性材料を、レーザ直描画方式により、前記複数の機能部の各機能部領域に対応して、露光波長を変え、所定の露光量で露光し、この後、露光された感光性材料を現像する前記所定の現像プロセスを行い、各機能部をパターニング形成することを特徴とする液晶表示装置用基板のパターンニング方法。
IPC (1件)：
G02F 1/133
FI (1件)：
G02F1/1339 500
Fターム (11件)：
2H089LA04 ,  2H089LA06 ,  2H089LA09 ,  2H089NA12 ,  2H089NA13 ,  2H089QA12 ,  2H089QA14 ,  2H089QA16 ,  2H089RA08 ,  2H089TA01 ,  2H089TA04
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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