特許
J-GLOBAL ID：200903058669757097
回折限界以下のフィーチャを作り出すためのフォトリソグラフィーシステムと方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
野村 泰久
, 大菅 義之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-550346
公開番号（公開出願番号）：特表2009-523322
出願日： 2007年01月08日
公開日（公表日）： 2009年06月18日
要約：
近接場フォトリソグラフィーのためのシステムと方法は、回折限界を超えるパターンフィーチャのイメージングを可能にするために、表面プラズモン共鳴を利用する。一例の近接場フォトリソグラフィーシステムは、感光材の上に撮像される複数の不透明フィーチャと金属プラズモンスーパーレンズを含むプラズモンスーパーレンズテンプレートを含む。不透明フィーチャと金属スーパーレンズはポリマースペーサー層によって分離される。光はスーパーレンズテンプレートを通って伝播し、ス-パーレンズの反対側に不透明フィーチャの像を形成する。スーパーレンズテンプレートとフォトレジスト被覆半導体ウェハとの間の接触から起こる損傷を減らすために、固体もしくは液体の材料を含む中間層が、スーパーレンズとフォトレジスト被覆半導体ウェハの間に置かれる。【選択図】図4A
請求項（抜粋）：
第一の屈折率を持ち、波長λを持つ光に反応する感光材を露光させるためのフォトリソグラフィーシステムであって、
前記光に対して不透明な複数のフィーチャと、
前記複数の不透明フィーチャの前方に配置された誘電体であって、前記光に対して実質的に透過性の誘電体と、
前記誘電体の前方かつ前記感光材の後方に配置されたスーパーレンズと、
前記スーパーレンズと前記感光材の間の中間層であって、前記光に対して実質的に透過性な、前記感光材とは異なる材料を含む中間層
を含むフォトリソグラフィーシステム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, G03F7/20 521
5F046AA28
, 5F046BA10
, 5F046CA07
, 5F046CB12
, 5F046CB17
, 5F046CB24
, 5F046DA01
審査官引用 (10件)
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光記録装置および光記録媒体
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-102906
出願人：東レ株式会社
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特開昭58-052820
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特開平4-305917
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引用文献：
審査官引用 (2件)
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Imaging through planar silver lenses in the optical near field
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OPTICS EXPRESS, 20050321, V13 N6, P2127-2133
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