特許
J-GLOBAL ID：200903058702973787

基板の処理方法、基板処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体

発明者：
藤丸 周三

藤丸 周三 について

, 
山本 健生

山本 健生 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-081316
公開番号（公開出願番号）：特開2008-244072
出願日： 2007年03月27日
公開日（公表日）： 2008年10月09日
要約：
【課題】トラブルが発生したときに塗布現像処理装置内にあるウェハを、早期になおかつ簡単な制御で再処理する。【解決手段】トラブルが発生して塗布現像処理装置の動作が停止された際に、そのときの塗布現像処理装置内にあるウェハの位置と処理状況のウェハ情報Iを記憶する。その後、塗布現像処理装置の電源が切られる。その後、塗布現像処理理装置が再起動された際に、塗布現像処理装置内にあるウェハをカセット内に回収する。その後、カセット内のウェハを、トラブル発生前と同じ搬送レシピHに従って所定の複数の処理ユニットに順次搬送し、前記ウェハ情報Iに基づいて既に処理の終了している処理ユニットでは当該ウェハの処理を行わず、未だ処理の行われていない処理ユニットでは当該ウェハの処理を行って、前記所定の処理レシピPの残りの基板処理を行う。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
複数枚の基板を収容する基板収容部と、基板に対し各種処理を行う複数の処理ユニットを有する基板処理装置において、基板収容部内の複数の基板を搬送レシピに従って所定の複数の処理ユニットに順次搬送して所定の処理レシピの基板処理を行う、基板の処理方法であって、 トラブルが発生して基板処理装置の動作が停止された際に、そのときの基板処理装置内にある基板の位置と処理状況の基板情報を記憶する工程と、 その後基板処理装置の電源が切られ、その後基板処理装置が再起動された際に、基板処理装置内にある前記基板を基板収容部内に回収する工程と、 その後、前記基板収容部内の基板を、トラブル発生前と同じ搬送レシピに従って前記所定の複数の処理ユニットに順次搬送し、前記基板情報に基づいて既に処理の終了している処理ユニットでは当該基板の処理を行わず、未だ処理の行われていない処理ユニットでは当該基板の処理を行って、前記所定の処理レシピの残りの基板処理を行う工程と、を有することを特徴とする、基板の処理方法。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (3件)：
H01L21/30 564C ,  H01L21/30 569F ,  H01L21/30 562
Fターム (3件)：
5F046CD05 ,  5F046JA27 ,  5F046LA19
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 吸収促進組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-017838   出願人：ポーラ化成工業株式会社
審査官引用 (7件)
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