特許
J-GLOBAL ID:200903058841077567

超臨界流体プラズマ発生装置および超臨界流体プラズマ発生方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松島 理
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-077132
公開番号(公開出願番号):特開2006-260955
出願日: 2005年03月17日
公開日(公表日): 2006年09月28日
要約:
【課題】超臨界流体に高エネルギーのプラズマを発生でき、高い反応速度が実現できる超臨界流体プラズマ発生装置および超臨界流体プラズマ発生方法を提供すること。【解決手段】超臨界流体プラズマ発生装置1は、圧力容器2と、圧力容器2に原料流体を供給する原料供給装置3と、圧力容器2内に設けられた電極7と、電極7に高周波電力を供給する高周波電源を有するものであり、原料流体を圧力容器2に供給して圧力容器2内に超臨界流体を生成するとともに、高周波電源によって圧力容器2内に設けた電極7に電力を供給して超臨界流体に高エネルギーのプラズマを発生させる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
圧力容器と、圧力容器に原料流体を供給する原料供給装置と、圧力容器内に設けられた電極と、電極に高周波電力を供給する高周波電源を有する超臨界流体プラズマ発生装置。
IPC (2件):
H05H 1/24 ,  B01J 3/00
FI (2件):
H05H1/24 ,  B01J3/00 A
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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