特許

J-GLOBAL ID：200903059161581054

欠陥分類方法及びその装置

発明者： 奥田 浩人 ,  本田 敏文 ,  高木 裕治 ,  宮本 敦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-234302
公開番号（公開出願番号）：特開2004-077165
出願日： 2002年08月12日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】教示データを多数収集する必要がなく、かつ、ユーザによって異なる欠陥分類要求に対して柔軟に対応が可能な、信頼性の高い欠陥自動分類。【解決手段】システムが提供するクラス、またはユーザが定義したクラスを、ユーザが任意に組み合わせて分類クラス構成を定義し、更に、ユーザが欠陥のクラスに関する先験的知識を制約として与え、制約付の学習を行う。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

試料を撮像して該試料の画像を得る工程と、 該試料の画像を参照画像と比較して前記試料の欠陥画像を抽出する工程と、 該抽出した欠陥画像を該欠陥画像を分類するための複数のクラスとの対応付けを行う工程と、 該対応付けの情報を記憶する工程と、 前記欠陥画像を複数のクラスに分類する為の制約条件を設定する工程と、 前記記憶した対応付けの情報と前記設定した制約条件とを用いて前記抽出した欠陥画像を前記複数のクラスに分類する工程と、 該分類した欠陥画像を画面上に表示する工程と を備えたことを特徴とする欠陥分類方法。

IPC (4件)：

G01N21/88 ,  G01N21/956 ,  G06T1/00 ,  G06T7/00

FI (4件)：

G01N21/88 J ,  G01N21/956 B ,  G06T1/00 305A ,  G06T7/00 300F

Fターム (21件)：

2G051AA65 ,  2G051AB07 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EC01 ,  2G051ED11 ,  2G051ED21 ,  2G051ED30 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DC02 ,  5B057DC32 ,  5B057DC36 ,  5L096BA03 ,  5L096CA02 ,  5L096HA07 ,  5L096JA11

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 画像自動分類方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-065151   出願人：株式会社日立製作所
• 検査装置および検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-195128   出願人：株式会社日立製作所
• 不変のコアクラスでの自動欠陥分類
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-559420   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• ハイブリッドで一様に適用可能な自動欠陥分類法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-219833   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド