特許
J-GLOBAL ID:200903059177967025
三フッ化窒素の精製方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
木戸 一彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-263490
公開番号(公開出願番号):特開2002-068717
出願日: 2000年08月31日
公開日(公表日): 2002年03月08日
要約:
【要約】【課題】 三フッ化窒素を使用する半導体製造工程においてトラブル発生の原因となる微量のフッ化水素を確実に除去することができる三フッ化窒素の精製方法を提供する。【解決手段】 不純物としてフッ化水素を含む三フッ化窒素を、空塔速度0.005〜1m/secの範囲で活性炭に接触させることにより、前記フッ化水素を活性炭に吸着させて該三フッ化窒素中から除去する。
請求項(抜粋):
不純物としてフッ化水素を含む三フッ化窒素を活性炭に接触させることにより、前記フッ化水素を活性炭に吸着させて該三フッ化窒素中から除去することを特徴とする三フッ化窒素の精製方法。
IPC (3件):
C01B 21/083
, B01D 53/02
, C01B 31/08
FI (3件):
C01B 21/083
, B01D 53/02 Z
, C01B 31/08 Z
Fターム (4件):
4D012BA03
, 4G046HB02
, 4G046HC12
, 4G046HC19
引用特許:
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