特許
J-GLOBAL ID：200903059310827452

ロードロック室を備えた基板処理装置および被処理基板の搬送方法

発明者：
江渡 良

江渡 良 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-296094
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118904
出願日： 1999年10月19日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：
【要約】【課題】 複数のロードロック室を設け、ロードロック室を介する被処理基板の露光処理等の処理室への搬送時間を短縮し、スループットの向上を図る。【解決手段】 大気と異なる雰囲気でウエハを処理する処理ステーション1と、それぞれゲート弁で大気と処理雰囲気に連結される複数のロードロック室3、3aと、処理ステーション1とロードロック室3、3aの間でウエハを搬送する第1の搬送手段7と、大気中のウエハキャリヤ4とロードロック室3、3aの間でウエハを搬送する搬送手段8とを備え、ロードロック室3、3aのそれぞれに対するウエハの搬出と搬入をともに行ない(ステップS9〜10、S12〜13)、その間に処理ステーション1でウエハを処理し(ステップS10、S13)、そしてその後にロードロック室3、3aの雰囲気置換を同時に行なう(ステップS11、S8)。
請求項（抜粋）：
大気と異なる雰囲気で被処理基板を処理する処理ステーションを有する処理室と、該処理室および大気とそれぞれ開閉装置で連結される複数のロードロック室と、前記処理室と前記複数のロードロック室の間で被処理基板を搬送するための前記処理室に配置された第1の搬送手段と、大気中の供給ステーションと前記複数のロードロック室の間で被処理基板を搬送するための大気中に配置された第2の搬送手段とを備えた基板処理装置において、前記複数のロードロック室はそれぞれ被処理基板の搬出と搬入をともに行なうように構成され、被処理基板の搬出と搬入を行なった後にそれぞれの雰囲気置換を行なうように構成されていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065
FI (4件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/302 B
Fターム (26件)：
5F004AA16 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F004CA09 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA15 ,  5F031MA06 ,  5F031MA27 ,  5F031MA31 ,  5F031MA32 ,  5F031NA02 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F031PA03 ,  5F045EB02 ,  5F045EB08 ,  5F045EB09 ,  5F045EB12 ,  5F045EN01 ,  5F045EN04 ,  5F046GA07 ,  5F046GA20
引用特許：
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM