スペクトル純度フィルタ、このようなスペクトル純度フィルタを備えたリソグラフィ装置、デバイス製造方法及びこのようなデバイス製造方法によって製造されたデバイス

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 吉田裕 , 森徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-377787
公開番号（公開出願番号）：特開2006-191090
出願日： 2005年12月28日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：

【課題】スペクトル純度フィルタ、このようなスペクトル純度フィルタを備えたリソグラフィ装置、デバイス製造方法及びこのようなデバイス製造方法によって製造されたデバイスを提供すること。【解決手段】スペクトル純度フィルタは、一定の直径を有する開口を備えており、第1の波長の放射を反射し、且つ、第2の波長の放射の少なくとも一部を開口を通して透過させ、第1の波長が第2の波長より長いことによって放射ビームのスペクトル純度を高くするように構成されている。このスペクトル純度フィルタを使用して、極紫外(EUV)放射ビームのスペクトル純度を改善することができる。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

開口を備えたリソグラフィ・スペクトル純度フィルタであって、第1の波長の放射を反射し、且つ、第2の波長の放射の少なくとも一部を前記開口を通して透過させ、前記第1の波長が前記第2の波長より長いことによって放射ビームのスペクトル純度を高くするように構成されたリソグラフィ・スペクトル純度フィルタ。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 531A , H01L21/30 515D , G03F7/20 521

Fターム (8件)：

5F046BA03 , 5F046CB02 , 5F046CB09 , 5F046CB23 , 5F046DA01 , 5F046GA03 , 5F046GA14 , 5F046GB07

引用特許：

審査官引用 (8件)

波長フィルタ、露光装置および撮像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-109803 出願人：三菱電機株式会社
光伝送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-124644 出願人：日本電気株式会社
高光透過開口アレイ
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-177513 出願人：日本電気株式会社

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