特許
J-GLOBAL ID：200903059381565319
パターン検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
鈴江 武彦
, 村松 貞男
, 坪井 淳
, 橋本 良郎
, 河野 哲
, 中村 誠
, 河井 将次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-240858
公開番号（公開出願番号）：特開2004-077390
出願日： 2002年08月21日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】ダイ-ダイ比較方式におけるオペレータの操作ミスや設定のばらつきをなくすことができ、操作性及び検査精度の向上をはかる。【解決手段】フォトマスク1に光を照射しその透過光をセンサ回路6で検出して得られる測定パターンデータに対し、設計データから得られる参照パターンデータと比較するダイ-データベース比較方式と、繰り返しの基となる領域を測定して得られる参照パターンデータと比較するダイ-ダイ比較方式とを併用するパターン検査装置において、設計データに含まれているレイアウト情報から、繰り返しパターン領域が複数個存在していることを検出し、繰り返しパターン領域の配置状態,個数,寸法,繰り返しピッチを読み取り、ダイ-ダイ比較方式における検査領域を自動的に取り込む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
パターンが形成されている被検査試料に光又は電子線を照射する手段と、
前記試料からの反射光,透過光又は2次電子を検出して測定パターンデータを取得する手段と、
前記試料にパターンを形成する際に用いられた設計データから前記測定パターンデータに対応する第1の参照パターンデータを発生する参照データ発生手段と、
前記測定パターンデータと第1の参照パターンデータとを比較して前記試料に形成されたパターンの欠陥有無を判定する第1の判定手段と、
前記試料上に繰り返しのパターン領域が存在する場合に、繰り返しの基となる領域を測定して得られるパターンデータを第2の参照パターンデータとして記憶する記憶手段と、
前記測定パターンデータと第2の参照パターンデータとを比較して前記試料に形成されたパターンの欠陥有無を判定する第2の判定手段と、
前記設計データ又は所定範囲の測定パターンデータから、第2の判定手段に必要な前記繰り返しパターン領域の配置状態,個数,寸法,繰り返しピッチを読み取り、第2の判定手段における検査領域を自動的に取り込む手段と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (9件)：
G01N21/956
, G01B11/24
, G01B15/00
, G01N23/04
, G01N23/20
, G01N23/225
, G03F1/08
, H01L21/027
, H01L21/66
G01N21/956 A
, G01B15/00 B
, G01N23/04
, G01N23/20
, G01N23/225
, G03F1/08 S
, H01L21/66 J
, G01B11/24 K
, G01B11/24 F
, H01L21/30 502P
, H01L21/30 502V
2F065AA56
, 2F065BB02
, 2F065CC18
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065JJ24
, 2F065PP12
, 2F065QQ03
, 2F065QQ23
, 2F065QQ25
, 2F065RR08
, 2F067AA25
, 2F067BB04
, 2F067CC16
, 2F067HH06
, 2F067JJ05
, 2F067KK04
, 2F067NN03
, 2F067RR35
, 2G001AA03
, 2G001AA07
, 2G001AA10
, 2G001BA07
, 2G001BA11
, 2G001BA15
, 2G001BA30
, 2G001CA03
, 2G001CA07
, 2G001CA10
, 2G001DA01
, 2G001DA09
, 2G001FA01
, 2G001FA06
, 2G001HA13
, 2G001KA03
, 2G001LA20
, 2G051AA56
, 2G051AB20
, 2G051CA03
, 2G051CB01
, 2G051CB02
, 2G051CB03
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051EB09
, 2G051ED04
, 2G051ED23
, 2H095BD04
, 2H095BD14
, 2H095BD27
, 4M106AA01
, 4M106AA02
, 4M106BA04
, 4M106CA39
, 4M106DB21
