特許
J-GLOBAL ID：200903059676863850

感光性組成物及びパターンの製造方法

発明者：
今井 玄児

今井 玄児 について

, 
岩沢 直純

岩沢 直純 について

, 
山岡 亜夫

山岡 亜夫 について


出願人/特許権者：
関西ペイント株式会社

関西ペイント株式会社 について


代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-105905
公開番号（公開出願番号）：特開平6-295064
出願日： 1993年04月09日
公開日（公表日）： 1994年10月21日
要約：
【要約】【目的】 高解像度で、微細画像パターン形成能に優れたポジ型フオトレジスト、印刷材料等に有用な感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法を提供する。【構成】 A)カルボキシル基を必須成分として含有する重合体、B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法。
請求項（抜粋）：
A)カルボキシル基を含有する重合体、B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00
FI (2件)：
H01L 21/30 301 R ,  H01L 21/30 361 L
引用特許：
審査官引用 (10件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM