特許
J-GLOBAL ID：200903059863503230

プラズマ処理装置

発明者：
松下 淳

松下 淳 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小山 有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-356472
公開番号（公開出願番号）：特開平11-185995
出願日： 1997年12月25日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：
【要約】【課題】 容量結合型プラズマの発生を抑制しつつ全体として効率よくプラズマを発生せしめる。【解決手段】 スパイラルアンテナ10に高周波を印加すると、スパイラルアンテナ10の軸方向電場はファラデーシールド12によって電気的に短絡され、容量結合型プラズマの発生が抑制され、上部チャンバー3内に主として誘導結合型プラズマが発生する。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理用チャンバーと、このプラズマ処理用チャンバーの周囲に設けられるコイル電極と、このコイル電極とプラズマ処理用チャンバーとの間に配置されるファラデーシールドを備えたプラズマ処理装置において、前記ファラデーシールドはプラズマ処理用チャンバーの周方向に沿って配設される複数の短冊状導電体からなり、これら複数の短冊状導電体は交互に上端部及び下端部が連続していることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/3065
FI (5件)：
H05H 1/46 A ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/265 F ,  H01L 21/302 B
引用特許：
審査官引用 (5件)
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