特許
J-GLOBAL ID：200903022084755914

レジスト用樹脂、レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法

発明者：
浅川 鋼児

浅川 鋼児 について

, 
後河内 透

後河内 透 について

, 
沖野 剛史

沖野 剛史 について

, 
信田 直美

信田 直美 について

, 
斎藤 聡

斎藤 聡 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-224538
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330287
出願日： 1999年08月06日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：
【要約】【課題】 短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で密着性、解像性の良好なレジストパターンを形成することができるレジスト用樹脂、レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することを目的としている。【解決手段】 本発明は有橋脂環を有しかつ少なくとも2個の含酸素極性基が前記有橋脂環の3級炭素位に結合した構造を有するレジスト用樹脂、さらに前記樹脂と、光酸発生剤を少なくとも含むことを特徴とするレジスト組成物、前記レジスト組成物を用いたパターン形成方法である。
請求項（抜粋）：
有橋脂環を有しかつ少なくとも2個の含酸素極性基が前記有橋脂環の3級炭素位に結合した構造を含むレジスト用樹脂。
IPC (6件)：
G03F 7/039 601 ,  C08G 63/00 ,  C08L 67/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F 7/039 601 ,  C08G 63/00 ,  C08L 67/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (57件)：
2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC07 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB19 ,  2H025CB20 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025EA04 ,  2H025FA17 ,  4J002BG071 ,  4J002CF181 ,  4J002EB106 ,  4J002ED076 ,  4J002EQ016 ,  4J002EV016 ,  4J002EV046 ,  4J002EV206 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV256 ,  4J002EV306 ,  4J002EV316 ,  4J002EV346 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J029AA03 ,  4J029AB07 ,  4J029AC01 ,  4J029AC02 ,  4J029AD01 ,  4J029AE04 ,  4J029BD05C ,  4J029BD10 ,  4J029CD07 ,  4J029HA01 ,  4J029HB01 ,  4J029HB05 ,  4J029KA02 ,  4J029KB02 ,  4J029KE09
引用特許：
出願人引用 (9件)
全件表示
審査官引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM