特許
J-GLOBAL ID：200903060069998672

欠陥検査方法及びその装置

発明者：
酒井 薫

酒井 薫 について

, 
前田 俊二

前田 俊二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (2件)： 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-134944
公開番号（公開出願番号）：特開2009-281898
出願日： 2008年05月23日
公開日（公表日）： 2009年12月03日
要約：
【課題】パターン検査装置において、膜厚の違いやパターン幅のばらつきなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度な欠陥検査を実現する。【解決手段】同一パターンとなるように形成されたパターンの画像を比較して不一致部を欠陥と判定する欠陥検査装置を複数の光学条件の対応する領域の画像の特徴量を特徴空間にプロットし、特徴空間上のはずれ値を欠陥として検出。これにより、ウェハ内の画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても各種の欠陥を高感度に検出できるようにした。また、これらの画像処理部のシステム構成を、画像の分割,タスクの生成を行うタスク管理部とからなり、タスクに応じて並列もしくは時系列に欠陥判定処理を行う構成とすることにより,高速な欠陥検査を行えるようにした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
試料上の同一パターンとなるように形成された複数のパターンの対応する領域の画像を撮像し、比較して欠陥を検出する欠陥検査方法であって、 検査対象となる前記試料上のパターンを所定の光学条件で照明し、前記試料からの散乱光を所定の光学条件で検出して、各々異なる光学条件に対応する複数の画像を取得し、前記複数の画像に基づく情報を統合して欠陥の検出を行うことを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (5件)：
G01N 21/88 ,  G01N 21/956 ,  G06T 1/00 ,  G06T 1/20 ,  H01L 21/66
FI (5件)：
G01N21/88 J ,  G01N21/956 A ,  G06T1/00 305A ,  G06T1/20 B ,  H01L21/66 J
Fターム (43件)：
2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BA01 ,  2G051BA08 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BC01 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA19 ,  2G051EA20 ,  2G051EB01 ,  2G051EC02 ,  2G051EC06 ,  2G051ED21 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106BA05 ,  4M106BA07 ,  4M106CA39 ,  4M106DB02 ,  4M106DB07 ,  4M106DB08 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  5B057AA03 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CH04 ,  5B057CH12 ,  5B057CH20 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC22 ,  5B057DC33
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

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