特許
J-GLOBAL ID：200903077083483570

欠陥検査方法及びその装置

発明者：
酒井 薫

酒井 薫 について

, 
前田 俊二

前田 俊二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-212744
公開番号（公開出願番号）：特開2008-039533
出願日： 2006年08月04日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
要約：
【課題】 欠陥検査装置において,膜厚の違いやパターン幅のばらつきなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して,高感度な欠陥検査を実現する。また,多種多様な欠陥を顕在化でき,広範囲な工程への適用が可能な欠陥検査装置を実現する 【解決手段】 同一パターンとなるように形成されたパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を,検査対象画像の各画素について,特徴空間にプロットし,特徴空間上のはずれ値を欠陥として検出する画像比較部を備えて構成した。これにより,ウェハ内の膜厚の違いに起因して画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても,正しく欠陥を検出できるようにした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
表面にパターンが形成された試料上の前記パターンを含む検査領域を順次撮像して前記試料の画像を取得し、 該順次撮像して得た画像を前処理補正し、 該前処理補正した画像から検査画像と参照画像とを順次作成し、 該順次作成した検査画像と参照画像とを用いて前記試料上の欠陥候補を抽出し、 該抽出した欠陥を分類する方法であって、 前記欠陥候補を抽出する工程において、前記順次作成した検査画像と参照画像との位置を合わせるための補正量を算出し、該算出した補正量に基づいて検査画像と参照画像との位置を合わせ、該位置を合わせた検査画像と参照画像とを比較して欠陥候補を抽出することを複数の演算処理装置を用いて処理し、該複数の演算処理装置の間と該複数の演算処理装置を制御する親演算処理装置との間を双方向のデータ通信バスで接続して前記処理を並列に実行することを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  H01L 21/66 ,  G06T 1/00
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  H01L21/66 J ,  G06T1/00 305A
Fターム (39件)：
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BB01 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA16 ,  2G051EA21 ,  2G051EB01 ,  2G051EB09 ,  2G051EC02 ,  2G051ED04 ,  2G051ED21 ,  4M106AA01 ,  4M106BA05 ,  4M106BA07 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB04 ,  4M106DB19 ,  4M106DB20 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ20 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CH02 ,  5B057DA03 ,  5B057DA07 ,  5B057DB02 ,  5B057DC05 ,  5B057DC36
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (13件)
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