特許
J-GLOBAL ID：200903085609330792

欠陥検査方法及びこれを用いた装置

発明者：
芝田 行広

芝田 行広 について

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前田 俊二

前田 俊二 について

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西山 英利

西山 英利 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-261564
公開番号（公開出願番号）：特開2007-071804
出願日： 2005年09月09日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：
【課題】 複数ある検査条件の中から高感度に検査可能な条件を早く簡単に求める欠陥検査方法とその装置を提供する。【解決手段】 検査対象となる欠陥種(形状,材料,近接するパターンなど)に対応して、多様な光学機能を備えており、各光学機能別に検出したい欠陥及び検出したくない擬似欠陥の濃淡差などを蓄積し、高感度、低擬似率検査に有利な条件を効率的に選択する。光学系としては、明視野・暗視野・明暗視野複合照明方式や照明波長帯及び、偏光フィルタや空間フィルタなどの条件の選択が可能である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の波長帯域の光を発光する光源手段と、 該光源手段にて発光した複数の波長帯域の光の中から所望の波長の光を選択して配線パターンが形成された試料に照射する光照射手段と、 該光照射手段により所望の波長の光を照射された前記配線パターンが形成された試料の光学像を受光して画像信号を出力する検出手段と、 該検出手段から出力された画像信号を処理して欠陥を検出する画像処理手段と、 前記光源手段と前記光照射手段と前記像検出手段と前記画像処理手段とのうちの少なくともひとつを制御する制御手段と、 前記試料に関連するデータベースと、前記光源手段と前記光照射手段と前記検出手段と前記画像処理手段とのうちの少なくとも1つの光学条件に関連するデータベースとを有する検査情報データベース手段と、 前記試料に関する情報を入力する入力手段と を備えた欠陥検査装置であって、 前記光照射手段は波長選択部と複数の光学系部とを有し、前記制御手段は、前記入力手段から入力された前記試料の配線パターンの材料に関する情報に基づいて前記波長選択部を制御して前記光源手段にて発光した複数の波長帯域の光のうちから配線パターンが形成された試料に照射する波長帯域の光を選択するとともに、前記複数の光学系部の中から該選択した波長帯域の光に対応した照明光学系を選択することを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (2件)：
G01N 21/956 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G01N21/956 A ,  H01L21/66 J
Fターム (29件)：
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BA04 ,  2G051BA08 ,  2G051BA11 ,  2G051BB05 ,  2G051BB07 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CB01 ,  2G051CD04 ,  2G051CD07 ,  2G051EA14 ,  2G051EB09 ,  2G051ED04 ,  2G051ED11 ,  2G051FA10 ,  4M106AA01 ,  4M106BA07 ,  4M106CA40 ,  4M106DB04 ,  4M106DB14 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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