特許
J-GLOBAL ID：200903060115895832
基板保持装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-006574
公開番号（公開出願番号）：特開2004-221296
出願日： 2003年01月15日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：
【課題】基板の平坦度をそのほぼ全面に渡って、ほぼ同程度に良好に維持した状態で保持する。【解決手段】ウエハWは、ホルダ本体70に載置され、吸着機構(38A〜38D,40,46A,V1)により、ホルダ本体に対して吸着される。この吸着の際に、吸着機構は、ホルダ本体にウエハが吸着されない非吸着部分近傍の特定部分領域の吸着を、その他の部分の吸着に先立って行う。これにより、ウエハの反り等が存在しても、ウエハの被吸着領域の全体を同時に吸着する場合と異なり、ウエハの被吸着領域の面積と保持装置本体の吸着領域の面積との差によって生じるウエハの皺が非吸着部分へ集中するという現象の発生を回避することが可能となる。この結果、面積差に応じた基板の余分な面積部分は被吸着領域の全域に分散された状態となる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板を吸着保持する基板保持装置であって、
基板が載置される保持装置本体と;
前記保持装置本体に対して前記基板を吸着するとともに、その吸着の際に前記保持装置本体に前記基板が吸着されない非吸着部分近傍の特定部分領域の吸着を、その他の部分の吸着に先立って行う吸着機構と;を備える基板保持装置。
IPC (3件)：
H01L21/68
, G03F7/20
, H01L21/027
H01L21/68 P
, G03F7/20 521
, H01L21/30 503C
5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031FA01
, 5F031FA02
, 5F031FA07
, 5F031FA12
, 5F031GA06
, 5F031GA10
, 5F031GA13
, 5F031GA15
, 5F031HA08
, 5F031HA13
, 5F031HA14
, 5F031HA33
, 5F031HA46
, 5F031JA02
, 5F031JA45
, 5F031JA51
, 5F031MA27
, 5F031PA13
, 5F031PA14
, 5F031PA30
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CC08
, 5F046CC10
, 5F046CC11
