特許
J-GLOBAL ID：200903060186997199

太陽電池モジュールの製法

発明者：
横山 敬志

横山 敬志 について

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三島 孝博

三島 孝博 について

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伊藤 茂樹

伊藤 茂樹 について


出願人/特許権者：
エア・ウォーター株式会社

エア・ウォーター株式会社 について


代理人 (1件)： 西藤 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-363380
公開番号（公開出願番号）：特開2001-177129
出願日： 1999年12月21日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：
【要約】【課題】高性能の太陽電池モジュールを、低コストで得ることができ、余分な材料を使い捨てることもない、優れた製法を提供する。【解決手段】少なくとも表裏面が種結晶層に形成された基板10を準備し、その表裏面の上にマスク層11を形成し、上記表裏面のマスク層11に、所定形状の開口を多数、所定間隔で形成し、その表裏面の上に、液相成長法によって結晶膜層13を形成し、その表裏面の上にn層14を形成し、その表裏面の上に、透明導電膜層15を形成し、その表裏面の上に電極部16を形成し、その表裏面の上に、2枚のモジュール形成用透明カバー18を、それぞれ接着剤層19を介して固定し、その両側の透明カバー18を、電極部16,透明導電膜層15,n層14および結晶膜層13と一体化した状態で、マスク層11付基板10からそれぞれ外すことにより、2個のモジュール部材20と、マスク層11付基板10とに分離したのち、上記2個のモジュール部材20から、それぞれ太陽電池モジュールを得るようにした。
請求項（抜粋）：
少なくとも表裏面が種結晶層に形成された基板を準備する工程と、上記基板の表裏面に、所定形状の開口を多数、所定間隔で有するマスク層を形成する工程と、上記表裏面のマスク層の上に、液相成長法によって結晶膜層を形成する工程と、上記表裏面の結晶膜層の表層部もしくはその上に、n層もしくはp層を形成することにより接合構造を得る工程と、上記表裏面の接合形成部の上に、透明導電膜層を形成する工程と、上記表裏面の透明導電膜層の上に、表面電極となる電極部を形成する工程と、上記電極部が形成された表裏面の透明導電膜層に、2枚のモジュール形成用透明カバーを、それぞれ接着剤層を介して固定する工程と、上記固定された両側の透明カバーを、電極部,透明導電膜層,接合形成部および結晶膜層と一体化した状態で、マスク層付基板からそれぞれ外すことにより、2個のモジュール部材と、マスク層付基板とに分離する工程と、上記2個のモジュール部材から、それぞれ太陽電池モジュールを得る工程とを備えたことを特徴とする太陽電池モジュールの製法。
Fターム (14件)：
5F051AA02 ,  5F051BA11 ,  5F051BA17 ,  5F051CB02 ,  5F051CB12 ,  5F051CB15 ,  5F051EA01 ,  5F051FA14 ,  5F051FA15 ,  5F051GA04 ,  5F051HA20 ,  5F051JA02 ,  5F051JA04 ,  5F051JA06
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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