特許
J-GLOBAL ID：200903060202317969
露光装置及び露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 芳洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-093984
公開番号（公開出願番号）：特開2004-302043
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】大面積の感光性基板に対して転写パターンの露光を良好に行うことができる露光装置及び該露光装置を用いた露光方法を提供することである。【解決手段】複数の投影光学ユニット2を備えて構成される露光装置において、前記投影光学ユニット2は、転写パターンが形成されたマスクと、前記マスクに形成された前記転写パターンの像を感光性基板P上に投影する投影光学系と、前記投影光学系による前記転写パターンの像のフォーカス位置を他の投影光学系とは独立に設定するフォーカス位置設定手段とをそれぞれ備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数の投影光学ユニットを備えて構成される露光装置において、
前記投影光学ユニットは、
転写パターンが形成されたマスクと、
前記マスクに形成された前記転写パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系と、
前記投影光学系による前記転写パターンの像のフォーカス位置を他の投影光学系とは独立に設定するフォーカス位置設定手段と
をそれぞれ備えることを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
G03F9/02
, G03F7/20
, H01L21/027
G03F9/02 Z
, G03F7/20 501
, H01L21/30 515D
, H01L21/30 526B
, H01L21/30 514C
2H097AA20
, 2H097BA01
, 2H097BA10
, 2H097CA01
, 2H097GB04
, 2H097KA38
, 2H097LA12
, 5F046BA03
, 5F046CB18
, 5F046CB25
, 5F046DA14
, 5F046DB05
