露光方法及び露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-269288
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166497
出願日： 2000年09月05日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】複数の投影光学系を介してマスクに形成されたパターンの像を基板上に転写するに際し、基板上に形成されるパターンの寸法が各投影領域において均一化できる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】露光装置1は、複数の照明光学系4に対応して配された複数の投影光学系5と、基板Wに形成されたパターンの寸法を計測する寸法計測系30と、寸法計測系30の計測結果に基づいて、照明光学系4の露光光の照射量、照明光学系4の光学特性、投影光学系5の光学特性のうち少なくとも1つを、投影領域のそれぞれを決定する光学系4、5ごとにそれぞれ個別に変更する制御系7とを備えているので、各投影領域ごとのパターンの寸法をそれぞれの光学系4、5の特性の違いの影響を受けること無く均一にする。

請求項（抜粋）：

複数の照明光学系からマスクに露光光を照明し、前記照明光学系のそれぞれに対応して配された複数の投影光学系を介して前記マスクのパターンの像を基板上に転写する露光方法において、予め、前記基板上における前記投影光学系のそれぞれに対応する投影領域の露光光の照射量を所定量に設定して露光処理を行い、該露光処理によって前記基板上に形成された各投影領域に対応するパターンの像のそれぞれの寸法を計測し、該計測結果に基づいて前記各寸法が目標値となるように、照明光学系の露光光の照射量、照明光学系の光学特性、投影光学系の光学特性のうち少なくとも1つを、前記投影領域のそれぞれを決定する光学系ごとにそれぞれ個別に変更することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

G03F 7/20 501 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/20 501 , H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 516 D , H01L 21/30 517

Fターム (29件)：

2H097BA01 , 2H097BB01 , 2H097BB02 , 2H097BB10 , 2H097CA12 , 2H097GB00 , 2H097LA12 , 5F046AA18 , 5F046BA05 , 5F046CA02 , 5F046CB03 , 5F046CB05 , 5F046CB10 , 5F046CB13 , 5F046CB20 , 5F046CB23 , 5F046CB25 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046DA01 , 5F046DA02 , 5F046DA08 , 5F046DA13 , 5F046DA14 , 5F046DB01 , 5F046DB12 , 5F046DC02 , 5F046DD03 , 5F046DD06

引用特許：

審査官引用 (7件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-215311 出願人：株式会社ニコン
特開平1-187817
結像位置測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-221524 出願人：株式会社ニコン

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