特許
J-GLOBAL ID:200903060421404982
ポリビニルフェノール類のアセタール化合物の製造法及びそれを用いた感放射線性組成物
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
千田 稔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-151286
公開番号(公開出願番号):特開2000-336119
出願日: 1999年05月31日
公開日(公表日): 2000年12月05日
要約:
【要約】【課題】 ポリビニルフェノール類のアセタール化物を所望の保護率で安定して製造する方法及び製造ロット間の性能振れの少ない感放射線性組成物を提供する。【解決手段】 ポリビニルフェノール類(A)と、>C=C-O-の部分構造を有し、かつ、ポリビニルフェノール類(A)との反応によりアセタール構造を形成しうる化合物(B)とを、有機溶媒の存在下反応させて、ポリビニルフェノール類のフェノール性水酸基の少なくとも一部がアセタール化された化合物を製造する方法において、化合物(B)を予め有機溶媒と混合した後、ポリビニルフェノール類と混合し、反応することを特徴とするポリビニルフェノール類のアセタール化物の製造方法。
請求項(抜粋):
ポリビニルフェノール類(A)と、>C=C-O-の部分構造を有し、かつ、ポリビニルフェノール類(A)との反応によりアセタール構造を形成しうる化合物(B)とを、有機溶媒の存在下反応させて、ポリビニルフェノール類のフェノール性水酸基の少なくとも一部がアセタール化された化合物を製造する方法において、化合物(B)を予め有機溶媒と混合した後、ポリビニルフェノール類と混合し、反応することを特徴とするポリビニルフェノール類のアセタール化物の製造方法。
IPC (2件):
C08F 12/24
, G03F 7/039 601
FI (2件):
C08F 12/24
, G03F 7/039 601
Fターム (54件):
2H025AA00
, 2H025AA01
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025BJ10
, 2H025CC20
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J100AB02Q
, 4J100AB07P
, 4J100AD02Q
, 4J100AJ02Q
, 4J100BA02H
, 4J100BA02P
, 4J100BA03P
, 4J100BA04H
, 4J100BA04P
, 4J100BA05H
, 4J100BA05P
, 4J100BA06H
, 4J100BA06P
, 4J100BA20P
, 4J100BA41P
, 4J100BB00P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100CA31
, 4J100HA31
, 4J100HA43
, 4J100HA61
, 4J100HB25
, 4J100HB39
, 4J100HB43
, 4J100HB44
, 4J100HB52
, 4J100HC13
, 4J100HC27
, 4J100HC38
, 4J100HC42
, 4J100HC43
, 4J100HC44
, 4J100HC45
, 4J100HC63
, 4J100HC71
, 4J100HC75
, 4J100HE14
, 4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る