特許
J-GLOBAL ID：200903060736913230
露光用反射型マスクブランク及び露光用反射型マスク、多層反射膜付き基板、並びに半導体装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-283754
公開番号（公開出願番号）：特開2008-103481
出願日： 2006年10月18日
公開日（公表日）： 2008年05月01日
要約：
【課題】静電チャックにより反射型マスクを固定する際の吸着不良の問題を解消し、静電チャックによりマスク表面を平坦にして、高精度のパターン転写を実現することができる、多層膜付き基板、露光用反射型マスクブランクおよび露光用反射型マスクを提供する。【解決手段】基板1上に、露光光を反射する多層反射膜2と、該多層反射膜2上に形成された露光光を吸収する吸収体層4とを有する露光用反射型マスクブランクであって、前記マスクブランクの転写パターン形成面とは反対側の面の形状が、凸面を有する形状である。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板上に、露光光を反射する多層反射膜と、該多層反射膜上に形成された露光光を吸収する吸収体層とを有する露光用反射型マスクブランクであって、
前記マスクブランクの転写パターン形成面とは反対側の面の形状が、凸面を有する形状であることを特徴とする露光用反射型マスクブランク。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G03F 1/14
, G03F 1/16
H01L21/30 531M
, G03F7/20 521
, G03F1/14 B
, G03F1/16 A
2H095BA10
, 2H095BC28
, 5F046GA03
, 5F046GB01
, 5F046GD10
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
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