特許
J-GLOBAL ID：200903045591137653
反射マスク基板のコーティング
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉武 賢次 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-501941
公開番号（公開出願番号）：特表2003-501823
出願日： 2000年06月06日
公開日（公表日）： 2003年01月14日
要約：
【要約】1)欠陥精査、表面仕上げおよび欠陥レベルを改善するために、低熱膨張性物質EUVLマスク基板の片側または両側でコーティング;および2)静電チャッキングを促して、マスク基板の他の付着コーティングまたは多層膜コーティングで生じた応力アンバランスによるたわみを直すために、裏面側で高誘電性コーティングを施すことからなる、マスク基板を作製するための方法。TaSiのような膜も、応力のバランスをとるために、物質コーティング前に低熱膨張性物質の表面側および/または裏面に付着させてよい。シリコン上層およびシリコンおよび/または他の導電性下層を形成した低熱膨張性物質は、欠陥精査および応力バランシングを改善することができる。
請求項（抜粋）：
低熱膨張性物質から構成されてなる基板、 前記基板の表面側に少くとも1つの物質層、および 前記基板の裏面側に少くとも1つの物質層を含んでなるマスク基板。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/16 A
, H01L 21/30 531 M
, H01L 21/30 502 P
