特許
J-GLOBAL ID：200903088982770548
電子デバイス用基板の平坦度決定方法および製造方法、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
松本 悦一
, 椎名 彊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-089974
公開番号（公開出願番号）：特開2004-029736
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクおよび転写用マスクの製造方法およびそれに用いる電子デバイス用透明基板の平坦度決定方法および製造方法を提供する。【解決手段】電子デバイス用透明基板の主表面上に形成する薄膜の膜応力に起因した平坦度変化量を見込んで、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となるように、前記透明基板の平坦度を決定することを特徴とする電子デバイス用透明基板の平坦度決定方法。透明基板の平坦度を測定し、測定された該透明基板の平坦度に応じて該透明基板を研磨する際の荷重タイプを選定して研磨することにより、前記透明基板の平坦度を調整することを特徴とする電子デバイス用透明基板の平坦度調整方法。それを用いたマスクブランクおよび転写用マスクの製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
電子デバイス用基板の平坦度決定方法であって、前記基板の主表面上に形成する露光光に対して光学的変化をもたらす薄膜の膜応力に起因した前記基板の平坦度変化量を見込んで、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となるように、前記基板の平坦度を決定することを特徴とする電子デバイス用基板の平坦度決定方法。
IPC (4件)：
G03F1/14
, G03F1/08
, G03F7/20
, H01L21/027
G03F1/14 A
, G03F1/08 A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502P
2H095BB03
, 2H095BC04
, 2H095BC28
