特許
J-GLOBAL ID:200903060846524639

溶射皮膜構造体、及び、入れ子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 孝久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-312613
公開番号(公開出願番号):特開2008-127614
出願日: 2006年11月20日
公開日(公表日): 2008年06月05日
要約:
【課題】高い耐久性を有し、表面に凹凸が少なく、表面の平滑性に優れた溶射皮膜を備え、キャビティを有する射出成形用の金型において用いられ、キャビティを構成する面を形成する入れ子を提供する。【解決手段】入れ子11は、キャビティを有する射出成形用の金型において用いられ、キャビティを構成する面を形成し、(a)金属製ブロック22、(b)金属製ブロック22の少なくとも1表面に形成された、厚さ0.03mm乃至1mmの金属下地層23、及び、(c)金属下地層23上に形成された、セラミックスから成る溶射皮膜24から構成されており、溶射皮膜24は厚さ方向に変化した気孔率を有し、該気孔率は、溶射皮膜24の表面に近い側ほど、低い値である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
(a)金属から成る素地、 (b)素地上に形成された、厚さ0.03mm乃至1mmの金属下地層、及び、 (c)金属下地層上に形成された、セラミックスから成る溶射皮膜、 から構成された溶射皮膜構造体であって、 溶射皮膜は、厚さ方向に変化した気孔率を有し、 該気孔率は、溶射皮膜表面に近い側ほど、低い値であることを特徴とする溶射皮膜構造体。
IPC (4件):
C23C 4/10 ,  B29C 45/37 ,  B29C 33/38 ,  C23C 4/06
FI (4件):
C23C4/10 ,  B29C45/37 ,  B29C33/38 ,  C23C4/06
Fターム (18件):
4F202AJ02 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202AR20 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CD14 ,  4K031AA03 ,  4K031AB03 ,  4K031AB08 ,  4K031CB16 ,  4K031CB22 ,  4K031CB23 ,  4K031CB26 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031DA01 ,  4K031DA04
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (14件)
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