処理装置および処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-153907
公開番号（公開出願番号）：特開平11-329955
出願日： 1998年05月19日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】処理液の種類および使用状態に応じて、最適なモードで洗浄タイミングを設定・実施することにより、洗浄の容易化および洗浄の頻度低減を図ることができる処理装置および処理方法を提供すること。【解決手段】コントローラ60は、所定枚数または所定ロット数のウエハにWついて現像処理が終了するか、現像液供給ノズル41が先行のウエハWに現像液を塗布した後に後続のウエハWに現像液を塗布するまでの時間間隔が所定時間を超えるか、またはこれらのいずれかを検出した時点で、移動機構43により現像液供給ノズル41を移動してその先端部41aを洗浄機構50に装着し、洗浄機構50により現像液供給ノズル41を洗浄するように制御する。

請求項（抜粋）：

処理液供給ノズルを有し、その処理液供給ノズルから被処理体に処理液を供給し、被処理体に対して所定の処理を施す処理機構と、洗浄ノズルを有し、その洗浄ノズルから前記処理液供給ノズルの先端部に洗浄液または不活性ガスを吐出させて前記処理液供給ノズルを洗浄する洗浄機構と、前記処理液供給ノズルを前記処理機構と洗浄機構との間で移動させる移動機構と、処理された被処理体の数またはロット数を演算し、所定数または所定ロット数について処理が終了した時点で、前記移動機構に対して前記処理液供給ノズルを移動させてその先端部を前記洗浄機構に装着させる指令を出力し、かつ前記洗浄機構に対し前記処理液供給ノズルを洗浄させる指令を出力する制御手段とを具備することを特徴とする処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , B08B 3/02 , H01L 21/304 643 , H01L 21/304 648 , G03F 7/30 501

FI (5件)：

H01L 21/30 572 B , B08B 3/02 D , H01L 21/304 643 A , H01L 21/304 648 G , G03F 7/30 501

引用特許：

出願人引用 (5件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-185071 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-176348 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
ノズル待機装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-312513 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (5件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-185071 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-176348 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
ノズル待機装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-312513 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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