アクティブマトリクス基板及びその製造方法、表示装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松山允之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-091546
公開番号（公開出願番号）：特開2003-289136
出願日： 2002年03月28日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：

【要約】【課題】プラスチック基板等の低耐熱基板上に選択転写法により低コストで形成され、且つ従来と同等以上の性能を有するアクティブマトリクス基板及びその製造方法、表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】基板(105)と、前記基板の上に設けられ、有機樹脂からなり、前記基板の主面に対して90度よりも小さいテーパ角を有する傾斜部が側面の少なくとも一部に設けられた接着層(106)と、前記接着層の上に設けられた薄膜能動素子(102)と、前記薄膜能動素子に接続され、前記傾斜部を介して前記基板の上に延在する接続配線(107)と、を備えたことを特徴とするアクティブマトリクス基板を提供する。

請求項（抜粋）：

基板と、前記基板の上に設けられ、有機樹脂からなり、側面の少なくとも一部に前記基板の主面に対して90度よりも小さいテーパ角を有する傾斜部を含む接着層と、前記接着層の上に設けられた薄膜能動素子と、前記薄膜能動素子に接続され、前記傾斜部を介して前記基板の上に延在する接続配線と、を備えたことを特徴とするアクティブマトリクス基板。

IPC (9件)：

H01L 27/12 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , G02F 1/1368 , G09F 9/00 338 , G09F 9/30 338 , H01L 21/336 , H01L 29/786 , H05B 33/14

FI (9件)：

H01L 27/12 B , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , G02F 1/1368 , G09F 9/00 338 , G09F 9/30 338 , H05B 33/14 A , H01L 29/78 627 D , H01L 29/78 626 C

Fターム (94件)：

2H088FA16 , 2H088FA18 , 2H088FA29 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 2H090JB03 , 2H090JC07 , 2H090LA04 , 2H092JA24 , 2H092MA01 , 2H092NA11 , 2H092NA21 , 2H092PA01 , 3K007AB18 , 3K007BA07 , 3K007CA06 , 3K007DB03 , 3K007FA00 , 3K007GA00 , 5C094AA32 , 5C094AA44 , 5C094BA27 , 5C094BA43 , 5C094CA19 , 5C094DA13 , 5C094EB10 , 5C094FA02 , 5C094FA03 , 5C094FB01 , 5C094FB15 , 5C094HA08 , 5C094JA09 , 5F110AA16 , 5F110AA26 , 5F110BB01 , 5F110CC02 , 5F110CC07 , 5F110DD01 , 5F110DD02 , 5F110DD05 , 5F110DD12 , 5F110DD21 , 5F110DD30 , 5F110EE03 , 5F110EE06 , 5F110EE28 , 5F110EE42 , 5F110EE44 , 5F110FF01 , 5F110FF02 , 5F110FF03 , 5F110FF30 , 5F110GG02 , 5F110GG13 , 5F110GG15 , 5F110GG25 , 5F110GG31 , 5F110GG44 , 5F110GG45 , 5F110HK03 , 5F110HK04 , 5F110HK08 , 5F110HK21 , 5F110HK22 , 5F110HK25 , 5F110HK33 , 5F110HK35 , 5F110HL03 , 5F110HL04 , 5F110HL22 , 5F110NN03 , 5F110NN04 , 5F110NN12 , 5F110NN16 , 5F110NN23 , 5F110NN24 , 5F110NN27 , 5F110NN35 , 5F110NN36 , 5F110NN43 , 5F110NN49 , 5F110NN72 , 5F110PP03 , 5F110QQ06 , 5F110QQ16 , 5G435AA17 , 5G435BB05 , 5G435BB12 , 5G435CC09 , 5G435HH14 , 5G435KK05 , 5G435LL06 , 5G435LL07 , 5G435LL08

引用特許：

審査官引用 (4件)

表示装置及びその作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-086372 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
アクティブマトリクス基板及びその製造方法、素子形成基板、中間転写基板
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-179214 出願人：株式会社東芝
表示セル
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-350543 出願人：加藤忠信

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