特許
J-GLOBAL ID:200903061402221393
金属の溶射膜を形成したセラミック母材の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
中倉 和彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-320933
公開番号(公開出願番号):特開2004-156080
出願日: 2002年11月05日
公開日(公表日): 2004年06月03日
要約:
【課題】CVD,PVD等の製造装置の治具として使用できる密着力の強い金属溶射膜を持ったセラミック母材の製造方法を提供する。【解決手段】セラミック母材1の所定の表面1cをRa=2.0〜4.0μm、Rmax=20〜35μmの粗面にする工程と、粗面にした表面1cに金属を溶射して第1の溶射膜4を形成する工程と、該第1の溶射膜の上に粗面の第2の溶射膜5を形成する工程とを有する。上記第1の溶射膜4が、プラズマ・スプレー溶射法による金属溶射であり、上記第2の溶射膜5がローカイド・スプレー溶射法による金属溶射である。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
セラミック母材の所定の表面を粗面にする工程と、粗面にした表面に金属を溶射して第1の溶射膜を形成する工程と、該第1の溶射膜の上に粗面の第2の溶射膜を形成する工程とを有することを特徴とする金属の溶射膜を形成したセラミック母材の製造方法。
IPC (5件):
C23C4/02
, B05D3/12
, B05D7/00
, B24C1/10
, C23C4/12
FI (5件):
C23C4/02
, B05D3/12 B
, B05D7/00 C
, B24C1/10 F
, C23C4/12
Fターム (17件):
4D075BB04Y
, 4D075BB83Z
, 4D075BB93Y
, 4D075CA13
, 4D075CA18
, 4D075DA06
, 4D075DB14
, 4D075DC19
, 4K031AA08
, 4K031AB03
, 4K031AB07
, 4K031BA01
, 4K031CB08
, 4K031CB35
, 4K031CB37
, 4K031CB39
, 4K031DA04
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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