特許
J-GLOBAL ID:200903061542207510

誘電性物体のプラズマ処理のための装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡部 正夫 (外10名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-014432
公開番号(公開出願番号):特開2003-306773
出願日: 2003年01月23日
公開日(公表日): 2003年10月31日
要約:
【要約】【課題】 工作物をプラズマ処理するための、連続生産プロセスを可能にする装置を提供すること。【解決手段】 工作物のプラズマ処理装置は、移送デバイスと、動作中に装置の領域内に電磁エネルギーを注入するプラズマ発生デバイスとを備え、移送デバイスは工作物をその領域を通して連続して搬送する。
請求項(抜粋):
工作物のプラズマ処理のための装置であって、移送デバイス(12)と、動作中に、該装置の領域(47)に電磁エネルギーを注入するプラズマ発生デバイス(44、45)とを備え、前記移送デバイスは、前記工作物を前記領域(47)を通して連続的に搬送する装置。
IPC (6件):
C23C 16/509 ,  B01J 3/00 ,  B01J 19/08 ,  B65D 23/02 ,  H05H 1/24 ,  H05H 1/46
FI (7件):
C23C 16/509 ,  B01J 3/00 J ,  B01J 19/08 H ,  B65D 23/02 A ,  B65D 23/02 Z ,  H05H 1/24 ,  H05H 1/46 B
Fターム (38件):
3E062AA09 ,  3E062AC02 ,  3E062AC06 ,  3E062JA01 ,  3E062JA07 ,  3E062JB23 ,  3E062JB24 ,  3E062JC04 ,  3E062JD01 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BB10 ,  4G075BC04 ,  4G075CA26 ,  4G075CA43 ,  4G075CA47 ,  4G075CA62 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075DA12 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EC25 ,  4G075ED01 ,  4G075EE02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15 ,  4K030CA05 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030CA15 ,  4K030FA04 ,  4K030HA06 ,  4K030JA18 ,  4K030KA15 ,  4K030KA30
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (10件)
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