特許
J-GLOBAL ID:200903061542207510
誘電性物体のプラズマ処理のための装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岡部 正夫 (外10名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-014432
公開番号(公開出願番号):特開2003-306773
出願日: 2003年01月23日
公開日(公表日): 2003年10月31日
要約:
【要約】【課題】 工作物をプラズマ処理するための、連続生産プロセスを可能にする装置を提供すること。【解決手段】 工作物のプラズマ処理装置は、移送デバイスと、動作中に装置の領域内に電磁エネルギーを注入するプラズマ発生デバイスとを備え、移送デバイスは工作物をその領域を通して連続して搬送する。
請求項(抜粋):
工作物のプラズマ処理のための装置であって、移送デバイス(12)と、動作中に、該装置の領域(47)に電磁エネルギーを注入するプラズマ発生デバイス(44、45)とを備え、前記移送デバイスは、前記工作物を前記領域(47)を通して連続的に搬送する装置。
IPC (6件):
C23C 16/509
, B01J 3/00
, B01J 19/08
, B65D 23/02
, H05H 1/24
, H05H 1/46
FI (7件):
C23C 16/509
, B01J 3/00 J
, B01J 19/08 H
, B65D 23/02 A
, B65D 23/02 Z
, H05H 1/24
, H05H 1/46 B
Fターム (38件):
3E062AA09
, 3E062AC02
, 3E062AC06
, 3E062JA01
, 3E062JA07
, 3E062JB23
, 3E062JB24
, 3E062JC04
, 3E062JD01
, 4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075BB10
, 4G075BC04
, 4G075CA26
, 4G075CA43
, 4G075CA47
, 4G075CA62
, 4G075CA65
, 4G075DA02
, 4G075DA12
, 4G075DA18
, 4G075EB01
, 4G075EC25
, 4G075ED01
, 4G075EE02
, 4G075FB04
, 4G075FB06
, 4G075FC11
, 4G075FC15
, 4K030CA05
, 4K030CA06
, 4K030CA07
, 4K030CA15
, 4K030FA04
, 4K030HA06
, 4K030JA18
, 4K030KA15
, 4K030KA30
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (10件)
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