モールド、その製造方法および転写微細パターンを有する基材の製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-100641
公開番号（公開出願番号）：特開2009-001002
出願日： 2008年04月08日
公開日（公表日）： 2009年01月08日
要約：

【課題】光透過性、離型性、機械的強度、寸法安定性、高精度な微細パターンを有し、微細パターンの変形が少ないモールド;モールドの微細パターンを寸法精度よく転写でき、転写微細パターンの変形が少ない転写微細パターンを有する基材の製造方法を提供する。【解決手段】中間層(C)14が形成された表面に官能基(x)に基づく化学結合を有し、含フッ素重合体(I)の線膨張係数との線膨張係数の差(絶対値)が30ppm/°C未満であり、熱変形温度が100〜300°Cである透明基体(A)12、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有し、官能基(x)と反応性の反応性基(y)を有する含フッ素重合体(II)からなる中間層(C)14、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有し、反応性基(y)を実質的に有しない含フッ素重合体(I)からなり、表面に微細パターン18を有する表面層(B)16を有するモールド10。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光硬化性樹脂を成形するための微細パターンを有するモールドであり、下記透明基体(A)と、下記表面層(B)と、前記透明基体(A)の表面に形成され、かつ前記透明基体(A)と前記表面層(B)との間に存在する中間層(C)とを有する、モールド。透明基体(A):中間層(C)が形成される前には、中間層(C)が形成される表面に官能基(x)を有し、中間層(C)が形成された後には、中間層(C)が形成された表面に前記官能基(x)と下記反応性基(y)とに基づく化学結合を有し、下記含フッ素重合体(I)の線膨張係数との線膨張係数の差(絶対値)が30ppm/°C未満であり、かつ熱変形温度が100〜300°Cである透明基体。表面層(B):主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有し、かつ下記反応性基(y)を実質的に有しない含フッ素重合体(I)からなり、表面に微細パターンを有する層。中間層(C):主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有し、かつ前記官能基(x)と反応性の反応性基(y)を有する含フッ素重合体(II)からなる層。

IPC (5件)：

B29C 59/02 , B29C 33/42 , B29C 33/38 , G11B 5/855 , B81C 5/00

FI (5件)：

B29C59/02 B , B29C33/42 , B29C33/38 , G11B5/855 , B81C5/00

Fターム (39件)：

3C081AA01 , 3C081AA17 , 3C081CA37 , 3C081DA46 , 4F202AA44 , 4F202AF01 , 4F202AG05 , 4F202AH73 , 4F202AJ03 , 4F202AJ06 , 4F202AJ09 , 4F202AR12 , 4F202AR13 , 4F202CA19 , 4F202CB01 , 4F202CB29 , 4F202CD16 , 4F202CD30 , 4F209AA44 , 4F209AC05 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH74 , 4F209AH75 , 4F209AH79 , 4F209AJ03 , 4F209AJ06 , 4F209AJ09 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PN09 , 4F209PQ11 , 5D112AA05 , 5D112AA19 , 5D112AA20 , 5D112AA24 , 5D112GA00 , 5D112GA17

引用特許：

出願人引用 (4件)

流体圧力インプリント・リソグラフィ
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-513006 出願人：ナノネックスコーポレーション, チヨウ,スティーヴン,ワイ.
段付き鋳張り捺印式リソグラフィー
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-604271 出願人：ボード・オヴ・リージェンツ,ザ・ユニヴァーシティ・オヴ・テキサス・システム
非粘着性のモールドを使用する、パターン化された構造の複製
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-534116 出願人：ブルーワーサイエンスアイエヌシー.

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