特許
J-GLOBAL ID：200903061610929383

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
原 孝志

原 孝志 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-375887
公開番号（公開出願番号）：特開2005-142290
出願日： 2003年11月05日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：
【課題】基板上に供給された処理液の温度低下を抑制することにより、処理品質または処理速度を向上する。 【解決手段】処理対象のウエハWは、スピンチャック1によってほぼ水平な姿勢で保持される。このウエハWに対して、処理液供給管14から、混合室34を通って、処理液が供給される。処理液供給管14は、第1処理液経路141および第2処理液経路142を有していて、これらを通った処理液(たとえば、硫酸および過酸化水素水)が、混合室34で混合される。混合室34は、ウエハWの上面に対向する基板対向面36を有する遮断板10内に形成されている。基板対向面36の中央には、液吐出口37が開口していて、この液吐出口37から、混合室34で混合されて調製された処理液がウエハWの上面に吐出される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板を保持しつつ回転させる基板保持回転手段と、 第1の処理液が流通する第1処理液経路と、 上記第1の処理液と混合することによって発熱反応を呈する第2の処理液が流通する第2処理液経路と、 上記第1処理液経路および上記第2処理液経路を流通してきた上記第1の処理液および上記第2の処理液を、上記基板保持回転手段に保持されている基板の上面に供給するための少なくとも1つの液吐出口と、 上記基板保持回転手段に保持されている基板の上面に対向する基板対向面を有し、基板保持回転手段に対して相対的に昇降可能な遮断部材と を含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  H01L21/027
FI (9件)：
H01L21/304 643A ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 651A ,  H01L21/304 651L ,  B08B3/02 B ,  B08B3/02 H ,  B08B3/08 Z ,  B08B3/10 Z ,  H01L21/30 572B
Fターム (19件)：
3B201AA01 ,  3B201AB33 ,  3B201AB42 ,  3B201BB38 ,  3B201BB82 ,  3B201BB87 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201CA03 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD31 ,  3B201CD41 ,  5F046MA02 ,  5F046MA03 ,  5F046MA05 ,  5F046MA06 ,  5F046MA10
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特開昭61-129829号公報
審査官引用 (6件)
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