ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-076600
公開番号（公開出願番号）：特開2008-268933
出願日： 2008年03月24日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：

【課題】本発明により、通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】(A)式(I)で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(C)フッ素および珪素を含有せず、所定の構造を有する繰り返し単位を有する樹脂、および(D)溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。式(I)中、各記号は所定の基等を表す。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(C)フッ素および珪素を含有せず、下記一般式(C-I)〜(C-III)から選ばれる繰り返し単位の少なくとも1つを有する樹脂、および(D)溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (10件)：

G03F 7/039 , G03F 7/023 , G03F 7/004 , C08F 20/28 , C08F 210/14 , C08F 216/14 , C08F 222/40 , C08F 212/04 , C08F 220/20 , H01L 21/027

FI (10件)：

G03F7/039 601 , G03F7/023 , G03F7/004 503A , C08F20/28 , C08F210/14 , C08F216/14 , C08F222/40 , C08F212/04 , C08F220/20 , H01L21/30 502R

Fターム (48件)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA01 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J100AA15P , 4J100AB04R , 4J100AB07R , 4J100AE02P , 4J100AL03S , 4J100AL03T , 4J100AL04S , 4J100AL04T , 4J100AL05S , 4J100AL05T , 4J100AL08P , 4J100AL08S , 4J100AL74S , 4J100AM43Q , 4J100BA02R , 4J100BA15P , 4J100BA59S , 4J100BC02P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC04S , 4J100BC07P , 4J100BC07S , 4J100BC08P , 4J100BC08S , 4J100BC09P , 4J100BC09S , 4J100BC43S , 4J100CA01 , 4J100CA03 , 4J100CA06 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開昭57-153433号公報
国際公開第05/003198号パンフレット
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-107305 出願人：富士写真フイルム株式会社

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審査官引用 (4件)

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-371122 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-032448 出願人：富士写真フイルム株式会社
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-155343 出願人：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社

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