位置検出方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西山恵三 , 内尾裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-277302
公開番号（公開出願番号）：特開2004-117030
出願日： 2002年09月24日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】アライメントマークに非対称性が発生した場合においても、そのマークの位置を高精度に検出することを目的とする。【解決手段】複数のショットが形成された基板上のアライメントマークの位置を第1の計測条件で計測するステップと、第1の計測条件とは異なる第2の計測条件で計測ステップと、第1の計測条件での計測値(M1i)と第2の計測条件の計測値(M2i)を用いて、該アライメントマークの位置(Mi)を決定するステップを有する特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数のショットが形成された基板をステージ上に設置し、該複数のショットから所定の複数のショットを選択し、選択したショット内(ショット番号をiとする)のアライメントマーク位置をアライメント検出光学系で検出することにより、該ステージ座標系に対する前記ショットの配列の位置ずれを、xy方向に対するシフト成分(Sx,Sy)、xy方向に対する倍率成分(Bx,By)、xy軸に対する回転成分(θx,θy)の、6成分に関して求める位置検出方法であって、該アライメントマークの位置を第1の計測条件で計測するステップと、第1の計測条件とは異なる第2の計測条件で計測ステップと、第1の計測条件での計測値(M1i)と第2の計測条件の計測値(M2i)を用いて、該アライメントマークの位置(Mi)を決定するステップを有する位置検出方法。

IPC (4件)：

G01B11/00 , G03F9/00 , H01L21/027 , H01L21/68

FI (4件)：

G01B11/00 C , G03F9/00 H , H01L21/68 F , H01L21/30 525W

Fターム (45件)：

2F065AA03 , 2F065AA07 , 2F065BB27 , 2F065BB28 , 2F065CC01 , 2F065CC19 , 2F065DD06 , 2F065FF04 , 2F065FF10 , 2F065FF49 , 2F065GG04 , 2F065GG05 , 2F065GG22 , 2F065GG23 , 2F065HH03 , 2F065JJ25 , 2F065LL12 , 2F065LL46 , 2F065PP12 , 2F065QQ17 , 2F065QQ18 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065QQ38 , 2F065QQ39 , 5F031CA02 , 5F031HA53 , 5F031JA03 , 5F031JA07 , 5F031JA28 , 5F031JA38 , 5F031JA50 , 5F031KA06 , 5F031KA07 , 5F031KA08 , 5F031KA12 , 5F031MA27 , 5F031MA28 , 5F031MA32 , 5F031PA16 , 5F046FA01 , 5F046FA11 , 5F046FC04 , 5F046FC07

引用特許：

審査官引用 (6件)

アライメントマーク検出装置とアライメントマーク検出方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-104513 出願人：ソニー株式会社
位置合わせ装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-270378 出願人：キヤノン株式会社
位置検出方法及び装置、並びに前記位置検出方法を用いた露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-073475 出願人：株式会社ニコン

全件表示

前のページに戻る