特許
J-GLOBAL ID：200903061798427258

計測方法、露光方法、デバイス製造方法、計測用マーク、及びマスク

発明者：
蛭川 茂

蛭川 茂 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-022081
公開番号（公開出願番号）：特開2007-207822
出願日： 2006年01月31日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：
【課題】所定マークの投影像の位置ずれ量を計測する際に、実際のデバイスパターンの像の位置ずれ量に近い計測値を得る。【解決手段】第1マーク上に第2マークの像を重ねて露光し、第1マークと第2マークの像との位置ずれ量を計測する計測方法において、その第2マークは、透過率が周囲の部分より低い複数のラインマーク36D,36Eを備え、所定のエッジ部38Aに対して内側のラインマーク36Dの幅がそのエッジ部38Aの外側のラインマーク36Eの幅よりも広く設定されている。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
第1マーク上に第2マークの像を重ねて露光し、前記第1マークと前記第2マークの像との位置ずれ量を計測する計測方法において、 前記第2マークは、透過率が周囲の部分より低い複数のライン部を備え、 所定の境界部に対して内側の前記ライン部の幅が前記境界部の外側の前記ライン部の幅よりも広いことを特徴とする計測方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  G03F 1/08 ,  G01B 11/00
FI (4件)：
H01L21/30 522B ,  G03F9/00 H ,  G03F1/08 N ,  G01B11/00 H
Fターム (24件)：
2F065AA03 ,  2F065AA20 ,  2F065BB28 ,  2F065CC20 ,  2F065EE00 ,  2F065FF41 ,  2F065JJ03 ,  2F065LL04 ,  2F065LL06 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065LL30 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065LL59 ,  2H095BA02 ,  2H095BE03 ,  5F046BA03 ,  5F046EA03 ,  5F046EA09 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046FA04 ,  5F046FC04
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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