特許
J-GLOBAL ID：200903062238753865
ウエファーにおけるプラズマ損傷を防ぐ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-331665
公開番号（公開出願番号）：特開2001-156056
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ウエファーにプラズマ誘発損傷を発生させない装置を提供する。【解決手段】 この装置は,誘電層を形成するプラズマデポジション装置と共に使用するのに適している。この装置には,処理対象のウエファー300の領域寸法よりも僅かに大きい領域をもつスリーングリッド302が含まれる。このスクリーングリッドは,該ウエファーの直上に設置される。このスクリーングリッドには,誘電層をデポジットする工程の初期の段階で,負のバイアスがかけられ,前記デッポジション装置におけるプラズマの陽イオンをフィルターする。プラズマデポジションプロセスの初期の段階において,電子フラッドガン304がウエファーの電荷を中和し,誘電層が確実にデポジットされる前にプラズマイオン損傷がない(ノン-プラズマ-イオン-ダメージ)ライナー層をウエファー面に形成する。
請求項（抜粋）：
プラズマ装置で誘電層を形成する工程での使用に適した基板におけるプラズマ損傷を防ぐ装置で、以下の構成を備える装置:処理対象のウエファーの領域寸法よりも僅かに大きい領域をもつスリーングリッドで、このスクリーングリッドは、該ウエファーの直上に設置され、前記誘電層をデポジットする工程の初期の段階で、負のバイアスがかけられ、少なくともプラズマの陽イオンをフィルターして、負のバイアスの遮断により誘電層が確実にデポジットされる前にプラズマイオン損傷がない(ノン-プラズマ-イオン-ダメージ)ライナー層を形成することを可能にするスクリーングリッド。
IPC (4件)：
H01L 21/31
, C23C 16/50
, H01L 21/205
, H05H 1/46
H01L 21/31 C
, C23C 16/50
, H01L 21/205
, H05H 1/46 A
4K030CA12
, 4K030FA01
, 4K030FA04
, 4K030KA20
, 4K030KA30
, 4K030KA49
, 4K030LA01
, 5F045AA08
, 5F045BB16
, 5F045EH06
, 5F045EH11
, 5F045EH20
, 5F045EM05
