特許
J-GLOBAL ID：200903062454427450

新規な部分保護トリスフェノール類とその製造方法

発明者：
塩見 泰一

塩見 泰一 について

, 
宮城 佐知子

宮城 佐知子 について


出願人/特許権者：
本州化学工業株式会社

本州化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 牧野 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-247755
公開番号（公開出願番号）：特開2000-309561
出願日： 1999年09月01日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：
【要約】【課題】特に、選んだ水酸基のみが保護剤にて保護された部分保護トリスフェノール類とその製造方法を提供することにある。【解決手段】本発明によれば、一般式(I)【化1】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基を示し、R2 は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基を示し、Xはアルキル基の炭素数が1〜4であるアルコキシカルボニルメチル基、アルキル基の炭素数が1〜4であるアルコキシカルボニル基又はテトラヒドロピラニル基を示し、mは0〜2の整数であり、nは0〜3の整数である。)で表わされる部分保護トリスフェノール類とその製造方法が提供される。
請求項（抜粋）：
一般式(I)【化1】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4のアルコキシル基を示し、R2 は炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基を示し、Xはアルキル基の炭素数が1〜4であるアルコキシカルボニルメチル基、アルキル基の炭素数が1〜4であるアルコキシカルボニル基又はテトラヒドロピラニル基を示し、mは0〜2の整数であり、nは0〜3の整数である。)で表わされる部分保護トリスフェノール類。
IPC (7件)：
C07C 69/712 ,  C07C 67/343 ,  C07D309/12 ,  C07C 37/20 ,  C07C 39/15 ,  C07C 45/71 ,  C07C 47/575
FI (7件)：
C07C 69/712 Z ,  C07C 67/343 ,  C07D309/12 ,  C07C 37/20 ,  C07C 39/15 ,  C07C 45/71 ,  C07C 47/575
Fターム (17件)：
4C062AA22 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB76 ,  4H006AC25 ,  4H006AC42 ,  4H006AC43 ,  4H006AC80 ,  4H006BD70 ,  4H006BE20 ,  4H006BJ20 ,  4H006BJ50 ,  4H006BN30 ,  4H006BP30 ,  4H006GP03 ,  4H006GP12 ,  4H006KA14
引用特許：
出願人引用 (14件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM