特許
J-GLOBAL ID：200903062495577890
解像度以下の補助フィーチャとして罫線ラダー・バーを利用した光近接補正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-115493
公開番号（公開出願番号）：特開2002-357892
出願日： 2002年03月13日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】マスクに形成されたパターンを基板上に光学的に転写し、かつ光近接効果を打ち消すためのフォトリソグラフィ・マスク。【解決手段】マスクは、それぞれが第1の方向に延在する長手方向軸線を有する、基板上に印刷すべき複数の解像可能フィーチャと、第2の方向に延在する長手方向軸線を有する、複数の解像可能フィーチャの2つの間に配設された一対の解像不可能光近接補正フィーチャとを含み、複数の解像可能フィーチャの長手方向軸線の第1の方向が、一対の解像不可能光近接補正フィーチャの長手方向軸線の第2の方向に垂直である。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを基板上に光学的に転写するためのフォトリソグラフィ・マスクにおいて、前記基板上に印刷される複数の解像可能フィーチャであって、それぞれが第1の方向に延びる長手方向軸線を有する解像可能フィーチャと、前記複数の解像可能フィーチャのうちの2つの間に配置される一対の解像不可能な光近接補正フィーチャであって、第2の方向に延びる長手方向軸線を有する解像不可能な光近接補正フィーチャと、を有し、前記複数の解像可能フィーチャの長手方向軸線の前記第1の方向が、前記一対の解像不可能な光近接補正フィーチャの長手方向軸線の前記第2の方向に垂直であることを特徴とするフォトリソグラフィ・マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 D
, H01L 21/30 502 P
2H095BA01
, 2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H095BC09
