プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：亀谷美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-193753
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023976
出願日： 1999年07月07日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】処理室外部で生成されたラジカルを被処理体に均一に導入可能なプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】酸化処理装置100の処理室102天井部には,第1〜第5導入バルブ122,124,126,128,130が介装された第1〜第5分岐導入管110,112,114,116,118の導入口110a,112a,114a,116a,118aが設けられ,処理室102床部には,第1〜第4排気バルブ156,158,160,162が介装された第1〜第4分岐排気管144,146,148,150の排気口144a,146a,148a,150aが設けられる。制御器120の制御により,第1〜第5導入バルブ122〜130と,第1〜第4排気バルブ156〜162の開度を調整し,処理室102内のウェハW表面上を流れるラジカルの流れ方向を規則的に変化させる。

請求項（抜粋）：

プラズマを生成するプラズマ生成室と,前記プラズマを導入して被処理体にプラズマ処理を施すプラズマ処理室とを備えたプラズマ処理装置において:前記プラズマは相互に切り換え可能な複数のプラズマ導入経路を介して前記プラズマ処理室に導入され,前記プラズマ処理室内の雰囲気は相互に切り換え可能な複数の排気経路を介して排気されることを特徴とする,プラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/31 , H05H 1/46

FI (2件)：

H01L 21/31 C , H05H 1/46 B

Fターム (23件)：

5F045AA09 , 5F045AA16 , 5F045AB32 , 5F045AB33 , 5F045AB34 , 5F045AC11 , 5F045AC15 , 5F045AF03 , 5F045BB02 , 5F045BB08 , 5F045DP03 , 5F045EC08 , 5F045EE18 , 5F045EF02 , 5F045EF08 , 5F045EF09 , 5F045EF20 , 5F045EG02 , 5F045EG06 , 5F045EH03 , 5F045EH18 , 5F045EM09 , 5F045GB15

引用特許：

出願人引用 (5件)

マイクロ波プラズマリアクタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-163481 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
特開平3-130367
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-004876 出願人：株式会社東芝

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審査官引用 (3件)

マイクロ波プラズマリアクタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-163481 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
特開平3-130367
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-004876 出願人：株式会社東芝

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