酸発生剤および感放射線性樹脂組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-158808
公開番号（公開出願番号）：特開2004-359590
出願日： 2003年06月04日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【課題】発生する酸が十分高い酸性度および沸点を有し、またレジスト被膜中での酸の拡散長が適度に短く、特に、マスクパターン依存性が小さく、かつ焦点深度に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物における感放射線性酸発生剤として極めて好適な新規酸発生剤、並びに当該酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】酸発生剤は、下記一般式(I)で表される構造を有する。【化1】〔但し、nは2〜10の整数である。〕感放射線性樹脂組成物は、前記酸発生剤以外に、ポジ型では酸解離性基含有樹脂を含有し、ネガ型ではアルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される構造を有する化合物からなる酸発生剤。

IPC (10件)：

C07C309/06 , C07C381/12 , C07D207/46 , C07D209/52 , C07D221/14 , C07D491/18 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (10件)：

C07C309/06 , C07C381/12 , C07D207/46 , C07D209/52 , C07D221/14 , C07D491/18 , G03F7/004 503A , G03F7/038 601 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (31件)：

2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC17 , 4C034CG10 , 4C050AA03 , 4C050BB04 , 4C050CC16 , 4C050DD07 , 4C050EE01 , 4C050FF01 , 4C050GG03 , 4C050HH04 , 4C069AC31 , 4C069BC10 , 4C069BC12 , 4C204CB19 , 4C204DB30 , 4C204EB03 , 4C204FB33 , 4C204GB01 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB81

引用特許：

審査官引用 (4件)

過フッ素化多官能性アニオンを有する光酸発生剤
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-532863 出願人：スリーエムイノベイティブプロパティズカンパニー
オニウム塩誘導体の製造方法及び新規オニウム塩誘導体
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-361970 出願人：東洋合成工業株式会社
有機塩化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-328447 出願人：株式会社日本触媒

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