特許
J-GLOBAL ID：200903062571060516

酸発生剤および感放射線性樹脂組成物

発明者：
江幡 敏

江幡 敏 について

, 
永井 智樹

永井 智樹 について

, 
王 勇

王 勇 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-158808
公開番号（公開出願番号）：特開2004-359590
出願日： 2003年06月04日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：
【課題】発生する酸が十分高い酸性度および沸点を有し、またレジスト被膜中での酸の拡散長が適度に短く、特に、マスクパターン依存性が小さく、かつ焦点深度に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物における感放射線性酸発生剤として極めて好適な新規酸発生剤、並びに当該酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】酸発生剤は、下記一般式(I)で表される構造を有する。【化1】〔但し、nは2〜10の整数である。〕感放射線性樹脂組成物は、前記酸発生剤以外に、ポジ型では酸解離性基含有樹脂を含有し、ネガ型ではアルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含有する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表される構造を有する化合物からなる酸発生剤。
IPC (10件)：
C07C309/06 ,  C07C381/12 ,  C07D207/46 ,  C07D209/52 ,  C07D221/14 ,  C07D491/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (10件)：
C07C309/06 ,  C07C381/12 ,  C07D207/46 ,  C07D209/52 ,  C07D221/14 ,  C07D491/18 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (31件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC17 ,  4C034CG10 ,  4C050AA03 ,  4C050BB04 ,  4C050CC16 ,  4C050DD07 ,  4C050EE01 ,  4C050FF01 ,  4C050GG03 ,  4C050HH04 ,  4C069AC31 ,  4C069BC10 ,  4C069BC12 ,  4C204CB19 ,  4C204DB30 ,  4C204EB03 ,  4C204FB33 ,  4C204GB01 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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