特許
J-GLOBAL ID：200903062618339387
投影光学系の収差測定方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-032450
公開番号（公開出願番号）：特開2003-309066
出願日： 2003年02月10日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：
【要約】【課題】簡便に収差量を測定することが可能な投影光学系の収差測定方法を提供すること。【解決手段】前記照明光を回折格子が形成されたフォトマスクの有限領域に一括照射し、該照明光がフォトマスクに形成された回折格子に入射して発生した回折光を投影光学系に入射させ、該投影光学系から射出した0次回折光及び1次回折光を、前記二次光源と共役な測定面に投影し、前記二次光源内の任意の一つの点光源から発した光線が前記回折格子に入射して発生した0次回折光及び1次回折光の前記測定面での投影位置の位置関係を測定する工程と、前記光線の光軸方向位置が前記測定面と異なる第2の測定面で前記位置関係を測定する工程と、求められた位置関係から、前記位置関係の測定に用いた光線に関する光線収差を求める工程とを含む。
請求項（抜粋）：
光源と、この光源からの光を複数の点光源に分割して二次光源を形成すると共に、該二次光源からの照明光をフォトマスクの有限領域に導く照明光学系と、該フォトマスクに配置されたパターンにより発生した透過光の縮小投影像をウェハ上に転写する投影光学系とから構成される露光装置に対し、前記投影光学系の収差を測定する投影光学系の収差測定方法であって、前記照明光を回折格子が形成されたフォトマスクの有限領域に一括照射する工程と、前記フォトマスクを通過した0次回折光及び1次回折光を前記投影光学系を用いて、前記光源に共役な第1の測定面に投影する工程と、前記二次光源内の任意の一つの点光源から照射された光線の0次回折光及び1次回折光の前記第1の測定面での投影位置の関係を測定する工程と、前記0次回折光及び1次回折光を前記投影光学系を用いて、前記光源に共役、且つ前記光線の光軸方向の位置が異なる第2の測定面に投影する工程と、前記一つの点光源から照射された光線の0次回折光及び1次回折光の前記第2の測定面の投影位置の関係を測定する工程と、求められた二つの投影位置の関係から、前記一つの点光源から照射された光線に関する光線収差を求める工程とを含むことを特徴とする投影光学系の収差測定方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01M 11/02 B
, H01L 21/30 516 A
, H01L 21/30 515 D
2G086HH06
, 5F046BA03
, 5F046CB17
, 5F046CB25
, 5F046DA12
, 5F046DB05
, 5F046DB08
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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