特許
J-GLOBAL ID：200903043758672758

投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者：
大嵜 美紀

大嵜 美紀 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-149586
公開番号（公開出願番号）：特開2000-340488
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】【課題】 マスク上のパターンをウエハ上に投影する投影レンズの球面収差を高精度に測定し、高集積度のデバイスを容易に製造することができる投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 第1物体の転写用パターンを第1の照明条件で照明する第1の照明手段と、該第1の照明手段で照明した第1物体の転写用パターンを第2物体に投影する投影光学系と、該第1の照明条件と異なる第2の照明条件と、該第2の照明手段で照明した特定パターンを該投影光学系で結像させ、該特定パターンの像の光強度分布を検出する光強度検出手段と該光強度検出手段からのデータに基づいて該投影光学系の波面収差を測定する波面収差測定手段と、を有していること。
請求項（抜粋）：
第1物体の転写用パターンを第1の照明条件で照明する第1の照明手段と、該第1の照明手段で照明した第1物体の転写用パターンを第2物体に投影する投影光学系と、該第1の照明条件と異なる第2の照明条件を有する第2の照明手段と、該第2の照明手段で照明した特定パターンを該投影光学系で結像させ、該特定パターンの像の光強度分布を検出する光強度検出手段と該光強度検出手段からのデータに基づいて該投影光学系の波面収差を測定する波面収差測定手段と、を有していることを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207
FI (4件)：
H01L 21/30 516 A ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 H
Fターム (20件)：
2H052BA02 ,  2H052BA06 ,  2H052BA12 ,  5F046BA03 ,  5F046CA02 ,  5F046CA04 ,  5F046CB01 ,  5F046CB02 ,  5F046CB05 ,  5F046CB23 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046DA13 ,  5F046DB01 ,  5F046DB11 ,  5F046DC12 ,  5F046EB02 ,  5F046EC05 ,  5F046FA02 ,  5F046FA10
引用特許：
審査官引用 (8件)
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