特許
J-GLOBAL ID：200903062883142145
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-023774
公開番号（公開出願番号）：特開2008-112204
出願日： 2008年02月04日
公開日（公表日）： 2008年05月15日
要約：
【課題】露光波長での透過率減少を軽微に抑えつつ、特に240nmから650nmにおける波長範囲における位相調整層の透過率を効果的に減衰成することができるハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法等を提供する。【解決手段】微細パターンの露光、転写を施す際に用いる位相シフトマスクであって、露光光を透過させる光透過部分と、該光透過部分を通過した光に対して光の位相を所定量シフトさせる位相シフター部とを有し、前記光透過部と位相シフター部との境界部近傍にて各々を透過した光が互いに打ち消しあう様に光学特性を設計することで、被露光体表面に転写されるパターン境界部のコントラストを良好に保持、改善する位相シフトマスクを製造するために用いるハーフトーン型位相シフトマスクブランクであり、透明基板上に前記位相シフター部を形成するための位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記位相シフター膜は、少なくとも珪素と炭素と金属を含む材料からなる膜を含むことを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
微細パターンの露光、転写を施す際に用いる位相シフトマスクであって、露光光を透過させる光透過部分と、該光透過部分を通過した光に対して光の位相を所定量シフトさせる位相シフター部とを有し、前記光透過部と位相シフター部との境界部近傍にて各々を透過した光が互いに打ち消しあう様に光学特性を設計することで、被露光体表面に転写されるパターン境界部のコントラストを良好に保持、改善する位相シフトマスクを製造するために用いるハーフトーン型位相シフトマスクブランクであり、透明基板上に前記位相シフター部を形成するための位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、
前記位相シフター膜は、少なくとも珪素と炭素と金属を含む材料からなる膜を含むことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (1件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
2H095BA01
, 2H095BB03
, 2H095BB25
, 2H095BC05
, 2H095BC27
