特許
J-GLOBAL ID:200903062974147450
荷電ビーム描画データ作成装置および方法ならびに荷電ビーム描画データ作成方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを記録した機械可読な記憶媒体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
深見 久郎 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-134947
公開番号(公開出願番号):特開平10-223526
出願日: 1997年05月26日
公開日(公表日): 1998年08月21日
要約:
【要約】【課題】 図形処理中の微小描画図形の発生を削減して、描画データの寸法精度を向上させることのできる荷電ビーム描画データ作成装置を提供する。【解決手段】 荷電ビーム描画データ作成装置は、設計データ100に対して基本図形処理を行なう基本図形処理手段106と、図形処理領域境界上の基本図形を図形処理領域境界上で切断する第1の切断手段112と、切断された図形の中から所定の寸法条件を満たす微小描画図形を探索する探索手段と、探索された微小描画図形と、隣接する図形とを統合して基本図形処理を行うことにより基本図形データ内の図形を修復する修復手段118と、修復された図形を描画フィールドに振分けるための手段120と、振分けられた図形を荷電ビーム描画データへ変換するための手段122とを含む。基本図形処理後の図形内の微小描画図形を修復するための手段108をさらに含んでもよい。
請求項(抜粋):
設計レイアウトデータに対して基本図形処理を行なって基本図形データを出力するための基本図形処理手段と、前記基本図形データ内の、図形処理領域境界上の基本図形を前記図形処理領域境界上で切断するように前記基本図形データを変換するための第1の切断手段と、前記第1の切断手段により切断された図形の中から所定の寸法条件を満たす微小描画図形を探索するための第1の探索手段と、前記第1の探索手段により探索された微小描画図形と、前記微小描画図形に隣接する図形とを統合し、さらに基本図形処理を行うことにより前記基本図形データ内の図形を修復するための第1の修復手段と、前記第1の修復手段により修復された図形を描画フィールドに振分けるための振分け手段と、前記振分け手段により振分けられた図形を荷電ビーム描画データへ変換するための手段とを含む、荷電ビーム描画データ作成装置。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G06F 17/50
FI (4件):
H01L 21/30 541 E
, G03F 1/08 A
, G06F 15/60 658 M
, H01L 21/30 541 J
引用特許:
審査官引用 (8件)
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電子ビーム描画パターン形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-012681
出願人:三菱電機株式会社
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特開平4-063419
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特開昭63-199421
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