特許
J-GLOBAL ID：200903062988312771

欠陥画像収集方法およびその装置

発明者：
小原 健二

小原 健二 について

, 
本田 敏文

本田 敏文 について

, 
久保 俊郎

久保 俊郎 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (2件)： 作田 康夫 ,  井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-066546
公開番号（公開出願番号）：特開2005-259396
出願日： 2004年03月10日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：
【課題】 光学的手段による欠陥検査装置により出力された欠陥位置データに基づいてSEMを用いて該欠陥を観察する場合において、該欠陥が光学的に透明な膜の下に存在する場合でも、欠陥画像の取得を行えるようにする。【解決手段】 電子顕微鏡の電子光学系を第1の撮像条件に設定し、検査装置を用いて試料を検査して得た試料の欠陥の位置データを用いて試料の欠陥位置が第1の撮像条件に設定した電子顕微鏡の視野に入るように設定し、第1の撮像条件に設定した電子顕微鏡で欠陥の位置を撮像して欠陥位置の第1の画像を得、第1の画像を処理して欠陥の有無を判定し、その結果に基づいて電子光学系を第2の撮像条件に設定し、第1の撮像条件で撮像した個所を第2の撮像条件に設定した電子顕微鏡で撮像して欠陥位置の第2の画像を得るようにした。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
電子顕微鏡を用いて試料の欠陥画像を収集する方法であって、 前記電子顕微鏡の電子光学系を第1の撮像条件に設定し、 検査装置を用いて試料を検査して得た該試料の欠陥の位置データを用いて前記試料の欠陥位置が前記第1の撮像条件に設定した前記電子顕微鏡の視野に入るように該電子顕微鏡の視野を設定し、 前記第1の撮像条件に設定した電子顕微鏡で前記視野内に設定した欠陥の位置を撮像して前記欠陥位置の第1の画像を得、 該撮像して得た第1の画像を処理して欠陥の有無を判定し、 該判定した結果に基づいて前記電子光学系を第2の撮像条件に設定し、 前記第1の撮像条件で撮像した個所を前記第2の撮像条件に設定した前記電子顕微鏡で撮像して前記欠陥位置の第2の画像を得る ことを特徴とする欠陥画像収集方法。
IPC (3件)：
H01J37/28 ,  G01N23/225 ,  H01L21/66
FI (4件)：
H01J37/28 B ,  G01N23/225 ,  H01L21/66 J ,  H01L21/66 N
Fターム (30件)：
2G001AA03 ,  2G001AA09 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001FA06 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA09 ,  2G001HA13 ,  2G001HA14 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  2G001JA08 ,  2G001JA11 ,  2G001JA12 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11 ,  2G001PA12 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106BA20 ,  4M106CA41 ,  4M106CB21 ,  4M106DB02 ,  4M106DB05 ,  4M106DB18 ,  5C033UU02 ,  5C033UU03
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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