特許
J-GLOBAL ID：200903063204719125
露光時間調節システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-106394
公開番号（公開出願番号）：特開2001-351859
出願日： 2001年04月04日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：
【要約】【課題】 前後工程の状態によって露光時間を調節できる半導体装置製造装備の露光時間調節システムを提供する。【解決手段】 本発明による半導体装置製造装備の露光時間調節システムは、外部信号によって露光時間を調節できる露光ユニット50と、処理対象作業の前段階工程情報を入手して、前記露光ユニットで形成される露光パターンに影響を与える要素を抽出して前記要素に該当する値をフィードフォワードデータとして貯蔵する前段階影響推定ユニット40と、前記露光ユニットで既に処理された一定期間の先作業に対して検査し、検査値をフィードバックデータとして貯蔵する検査ユニット60と、前記前段階影響推定ユニット40と前記検査ユニット60に貯蔵された前記データを所定の計算方式によって処理した結果を前記露光ユニット50が反応できる信号の形態に変えて前記露光ユニット50に伝達して、露光時間を調節するようにする中央処理ユニット70とを含む。
請求項（抜粋）：
外部信号によって露光時間を調節する露光ユニットと、処理対象作業の前段階工程の情報を入手して、前記露光ユニットで形成される露光パターンに影響を与える要素を抽出して前記要素に該当する値をフィードフォワードデータとして貯蔵する前段階影響推定ユニットと、前記露光ユニットで、既に処理された一定期間の先作業を検査し、検査値をフィードバックデータとして貯蔵する検査ユニットと、前記前段階影響推定ユニットと前記検査ユニットに貯蔵された前記データを所定の計算方式によって処理した結果を前記露光ユニットが反応できる信号の形態にして前記露光ユニットに伝達して露光時間を調節するようにする中央処理ユニットと、を含むことを特徴とする半導体装置製造装備の露光時間調節システム。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 D
5F046AA18
, 5F046BA03
, 5F046DA02
, 5F046DD03
, 5F046DD06
