特許
J-GLOBAL ID：200903063221174809

熱処理装置、および異物検出方法並びに異物除去方法

発明者：
岩永 修児

岩永 修児 について

, 
田中 道夫

田中 道夫 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 木下 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-357598
公開番号（公開出願番号）：特開2005-123433
出願日： 2003年10月17日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：
【課題】 加熱プレート上の異物を効果的に検出できる熱処理装置、および異物検出方法を提供すること。【解決手段】 加熱プレート24の熱により熱処理されたウエハWを支持し、前記ウエハWを前記加熱プレート24に対して離間すべく移動可能に設けられた支持ピン32と、前記加熱プレート24の上方位置に進退移動可能に設けられると共に、前記支持ピン32により支持されたウエハWを載置して、前記ウエハWを所定の温度に冷却する冷却プレート41と、前記冷却プレート41に設けられ、前記加熱プレート24上の異物を検出する異物検出手段50とを備え、前記冷却プレート41が前記加熱プレート24の上方位置に向けて移動する際に、前記異物検出手段50が加熱プレート24上の異物を検出する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板を加熱プレート上に載置して、前記加熱プレートの熱により前記基板を熱処理する熱処理装置であって、 前記加熱プレートの熱により熱処理された前記基板を支持し、前記基板を前記加熱プレートに対して離間すべく移動可能に設けられた支持手段と、前記加熱プレートの上方位置に進退移動可能に設けられると共に、前記支持手段により支持された基板を載置して、前記基板を所定の温度に冷却する冷却プレートと、前記冷却プレートに設けられ、前記加熱プレート上の異物を検出する異物検出手段とを備えたことを特徴とする熱処理装置。
IPC (1件)：
H01L21/027
FI (2件)：
H01L21/30 567 ,  H01L21/30 502V
Fターム (5件)：
5F046AA18 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046KA04 ,  5F046KA10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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