特許
J-GLOBAL ID：200903063285597878
真空成膜方法、装置、及びそれらを用いて製造されたフィルタ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
角田 嘉宏
, 古川 安航
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-314459
公開番号（公開出願番号）：特開2005-082837
出願日： 2003年09月05日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】 樹脂製基材若しくは少なくとも表層部に樹脂層を有する基材の蒸着面上に高多層な多層膜を形成することが可能な真空成膜方法、装置、及びそれらを用いて製造された光学フィルタを提供する。【解決手段】 真空チャンバ1内に設けられ流路7f,7g,7j内に所定の熱媒液が流れる基材ホルダ6aに基材を装着し、前記真空チャンバ内を実質的な真空状態に保持し、前記真空チャンバの内部で2以上の蒸発源から蒸発材料を蒸発させ、該蒸発させた前記蒸発材料を所定の順序で前記真空チャンバの内部に拡散させ、該拡散させた前記蒸発材料を前記基材の蒸着面に蒸着させて前記蒸発材料からなる多層膜を前記基材の蒸着面上に成膜する成膜方法において、前記基材ホルダが有する前記流路内に流れる前記所定の熱媒液として不凍液を用いる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基材の少なくとも表層部に樹脂層を有し、該樹脂層上に光の屈折率の相異なる2種類の薄膜が交互に積層されてなる交互層が成膜されている光学フィルタであって、
前記交互層が少なくとも30層の前記薄膜を有してなる、光学フィルタ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (10件)：
2H048GA14
, 2H048GA33
, 2H048GA60
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029DA08
, 4K029DB14
, 4K029EA08
, 4K029JA02
出願人引用 (1件)
審査官引用 (10件)
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