特許
J-GLOBAL ID：200903067177887776
真空成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 邦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-099171
公開番号（公開出願番号）：特開平10-287969
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：
【要約】【目的】真空槽と;複数の蒸着穴を有し、この真空槽内部で回転駆動される基板ホルダーと;この基板ホルダーより下方に位置させて上記真空槽内に設けた蒸発源と;を備え、この蒸発源から蒸発した物質を上記基板ホルダーの各蒸着穴上に置いた複数の被蒸着基板に蒸着する真空成膜装置において、被蒸着基板の温度上昇を抑制できる装置を得ること。【構成】 基板ホルダーが中空構造をなし、この中空構造の基板ホルダー内に、冷媒を供給する冷媒供給手段を有する真空成膜装置。
請求項（抜粋）：
真空槽と;複数の蒸着穴を有し、この真空槽内部で回転駆動される基板ホルダーと;この基板ホルダーより下方に位置させて上記真空槽内に設けた蒸発源と;を備え、この蒸発源から蒸発した物質を上記基板ホルダーの各蒸着穴上に置いた複数の被蒸着基板に蒸着する真空成膜装置において、基板ホルダーが中空構造をなしていること;及びこの中空構造の基板ホルダー内に、冷媒を供給する冷媒供給手段を有すること;を特徴とする真空成膜装置。
引用特許：
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